[发明专利]用于各向异性蚀刻衬底的装置和用于运行用于各向异性蚀刻衬底的装置的方法有效
申请号: | 201580043466.2 | 申请日: | 2015-07-06 |
公开(公告)号: | CN106575616B | 公开(公告)日: | 2020-02-14 |
发明(设计)人: | F.莱尔默 | 申请(专利权)人: | 罗伯特·博世有限公司 |
主分类号: | H01L21/3065 | 分类号: | H01L21/3065;H01L21/67;H01J37/32 |
代理公司: | 72001 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 方莉;宣力伟 |
地址: | 德国斯*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明提供了一种用于蚀刻衬底的装置以及一种用于运行根据本发明的装置的方法。该装置包括:第一反应腔,第一气体能够导入到第一反应腔中;第二反应腔,第二气体能够导入到第二反应腔中;线圈装置,借助于线圈装置能够产生电磁交变场;其中,借助于第一气体的加载能够利用电磁交变场产生至少一种第一反应物质,并且其中,借助于第二气体的加载能够利用电磁交变场产生至少一种第二反应物质;分离装置,借助于分离装置来中断第一反应腔与第二反应腔之间的直接气体交换;用于接收各向异性待蚀刻的衬底的蚀刻腔;以及混合装置,混合装置以如下方式布置和构造,即,这些反应物质进入到混合装置中、彼此混合并彼此混合地在蚀刻腔中为了各向异性蚀刻而作用到衬底上。 | ||
搜索关键词: | 用于 各向异性 蚀刻 衬底 装置 运行 方法 | ||
【主权项】:
1.用于各向异性蚀刻衬底的装置,其具有:/n第一反应腔(101;401;501;601),第一气体(G1)能够导入到所述第一反应腔中;/n第二反应腔(102;402;502;602),第二气体(G2)能够导入到所述第二反应腔中;/n至少一个线圈装置(110、112;410、112;510;610;L1、L2),借助于所述至少一个线圈装置能够产生至少一个电磁交变场;/n其中,借助于被导入的第一气体(G1)的加载能够在所述第一反应腔(101;401;501;601)中利用所产生的至少一个电磁交变场产生至少一种第一反应物质(R1),并且其中,借助于被导入的第二气体(G2)的加载能够在所述第二反应腔(102;402;502;602;702)中利用所产生的至少一个电磁交变场产生至少一种第二反应物质(R2);/n分离装置(120;420;620;720),借助于所述分离装置来中断或抑制所述第一反应腔(101;401;501;601)与所述第二反应腔(102;402;502;602)之间的直接气体交换;/n用于接收各向异性待蚀刻的衬底(152)的蚀刻腔(150);以及/n混合装置(130;130、132;232、243;332;432;434),所述混合装置以如下方式布置和构造,即,所产生的至少一种第一反应物质(R1)和所产生的至少一种第二反应物质(R2)在从两个反应腔(101、102;401、402;501、502;601、602)出来朝向所述蚀刻腔(150)的运动中在所述混合装置(130;130、132;232、243;332;432;434)中彼此混合并彼此混合地进入到所述蚀刻腔(150)中,用以各向异性蚀刻所述衬底(152),/n其中,所述混合装置(130;130、132;130、232、243;130、332;130、432、434)具有至少一个第一转向装置(132;232;332;432),借助于所述至少一个第一转向装置,为了使所产生的至少一种第一反应物质(R1)的至少一部分转向,部分或完全地截止所产生的至少一种第一反应物质(R1)从所述第一反应腔(101;401;501;601;701)出来向所述衬底(152)的直接路径,/n并且其中,所述第一转向装置以如下方式布置,即,第一反应物质(R1)和第二反应物质(R2)的气体流彼此交错地指向。/n
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