[发明专利]增加用于静电夹盘的气体效率有效
申请号: | 201580043978.9 | 申请日: | 2015-08-06 |
公开(公告)号: | CN106575635B | 公开(公告)日: | 2019-12-24 |
发明(设计)人: | V·D·帕科 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 侯颖媖 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 通过入口接收气体。气体的部分供应至静电夹盘。气体的部分通过压缩器再循环。增加气体的第二部分的压力。将气体的第二部分储存在气体储存器中。 | ||
搜索关键词: | 增加 用于 静电 气体 效率 | ||
【主权项】:
1.一种用于增加用于静电夹盘的背侧气体的效率的方法,所述方法包括以下步骤:/n通过入口接收所述气体;/n将所述气体的第一部分供应至所述静电夹盘;/n通过压缩器使所述气体的第二部分再循环;/n通过流孔将所述气体的所述第二部分供应至真空管线达第一时间间隔,其中将所述气体的所述第二部分供应至再循环管线达第二时间间隔。/n
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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