[发明专利]用于在基板上沉积原子层的方法和装置在审
申请号: | 201580044636.9 | 申请日: | 2015-06-19 |
公开(公告)号: | CN106574366A | 公开(公告)日: | 2017-04-19 |
发明(设计)人: | 保卢斯·威利布罗迪斯·乔治·普特;雷蒙德·雅各布斯·威廉默斯·克纳彭 | 申请(专利权)人: | 荷兰应用科学研究会(TNO) |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;H01L21/314;H01L51/00;H01L51/56 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司11240 | 代理人: | 张英,宫传芝 |
地址: | 荷兰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种在基板上沉积原子层的方法,包括从包含于鼓轮中的前体气体供应器供应前体气体;鼓轮相对于从气体源接收气体的密封件旋转。鼓轮或密封件中的一个包括一个或多个气体气体进料通道,该气体进料通道与前体气体供应器流体连通,以及鼓轮或密封件中的另一个在其表面包括一个或多个环周沟槽,该表面由该鼓轮或密封件中的一个密封,从而防止沿径向方向的流体流动路径,且留下沿环周方向的流体流动路径。至少一个密封沟槽设置有一个或多个分隔件来分离在密封沟槽中的制程气体进料的邻近区域,从而使得区域提供互不相同的制程气体组成,以使前体气体在基板附近,例如基板上反应,从而沉积出梯度组成的原子层堆叠。 | ||
搜索关键词: | 用于 基板上 沉积 原子 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种在基板上沉积原子层的方法,所述方法包括:‑从包含于鼓轮中的前体气体供应器供应前体气体;所述鼓轮相对于从气体源接收气体的密封件是可旋转的;所述鼓轮或所述密封件中的一个包括一个或多个气体气体进料通道,所述气体进料通道与所述前体气体供应器流体连通;‑所述鼓轮或所述密封件中的另一个在其表面内包括一个或多个环周沟槽,所述表面由所述鼓轮或所述密封件中的一个密封,从而防止沿径向方向的流体流动路径,并且留下沿环周方向的流体流动路径;‑在从所述前体气体供应器向所述基板供应所述前体气体期间,所述气体进料通道邻接密封沟槽,其中,气体流动路径的一部分由所述密封沟槽形成;‑其中至少一个密封沟槽设置有一个或多个分隔件,使得所述密封沟槽中的制程气体进料的邻近区域相分离,因此使得各区域提供互不相同的制程气体组成;及‑使所述前体气体在基板附近、例如基板上反应,以通过沿旋转轨迹旋转所述鼓轮且同时供应所述前体气体来形成原子层;从而沉积出梯度组成的原子层堆叠。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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