[发明专利]通过蒸馏和吸附进行氯硅烷提纯有效
| 申请号： | 201580045114.0 | 申请日： | 2015-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN106573182B | 公开（公告）日： | 2019-03-08 |
| 发明（设计）人： | M·艾格纳;U·佩措尔德;J·普罗哈斯卡 | 申请（专利权）人： | 瓦克化学股份公司 |
| 主分类号： | B01D3/14 | 分类号： | B01D3/14;C01B33/08;C01B33/107;B01D3/32 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 过晓东 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及用于蒸馏分离多组分混合物的方法和装置，所述多组分混合物包含二氯甲硅烷、三氯甲硅烷、四氯化硅和至少一种含硼、含磷或含砷杂质，该发明使用采用改良分隔壁技术和用于除去至少一种含硼、含磷或含砷杂质的吸附器的蒸馏塔以最大可能的纯度除去目标产物三氯甲硅烷。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 蒸馏 吸附 进行 硅烷 提纯 | ||
【主权项】：
1.一种用于蒸馏分离多组分混合物的方法，所述混合物包含：包含二氯甲硅烷和至少一种含硼、含磷或含砷杂质的低沸组分，包含三氯甲硅烷和至少一种含硼、含磷或含砷杂质的中沸组分，和包含四氯化硅的高沸组分，其中向第一蒸馏塔供给所述多组分混合物以除去所述至少一种作为底部馏分的包含四氯化硅的高沸组分，并且向第二蒸馏塔供给包含二氯甲硅烷、三氯甲硅烷和至少一种含硼、含磷或含砷杂质的顶部馏分，其中在所述第二蒸馏塔中，经由侧馏分除去所述至少一种包含三氯甲硅烷的中沸组分，并且除去所述至少一种作为顶部馏分的包含二氯甲硅烷的低沸组分，其中来自所述第一蒸馏塔的所述顶部馏分由第一吸附器中通过，该第一吸附器安置在从所述第一蒸馏塔至第二蒸馏塔通过的蒸汽流中，和/或至少一种来自所述第二蒸馏塔的底部馏分由用于除去所述至少一种含硼、含磷或含砷杂质的第二吸附器中通过，并且随后作为回流返回到所述第一蒸馏塔，其中两个蒸馏塔都包括垂直分隔壁。
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