[发明专利]胶态氧化硅化学-机械抛光组合物有效
| 申请号： | 201580045244.4 | 申请日： | 2015-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN107001913B | 公开（公告）日： | 2019-06-28 |
| 发明（设计）人： | S.格拉宾;J.戴萨德;沈忠良;M.卡瓦诺 | 申请（专利权）人： | 嘉柏微电子材料股份公司 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 化学‑机械抛光组合物，其包括分散在液体载剂中的胶态氧化硅研磨剂颗粒，所述化学‑机械抛光组合物具有在约1.5至约7范围内的pH值。所述胶态氧化硅研磨剂颗粒包括结合到其中的氨基硅烷化合物或鏻硅烷化合物。所述组合物可用于抛光包括硅氧材料例如TEOS的基板。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 化学 机械抛光 组合 | ||
【主权项】：
1.化学机械抛光组合物，包含：基于水的液体载剂；分散在该液体载剂中的胶态氧化硅研磨剂颗粒；氨基硅烷化合物或鏻硅烷化合物，其结合到所述胶态氧化硅研磨剂颗粒的外表面的内部；以及在1.5至7范围内的pH值。
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