[发明专利]磁阻元件和磁存储器有效

专利信息
申请号: 201580045843.6 申请日: 2015-11-12
公开(公告)号: CN107078210B 公开(公告)日: 2020-06-05
发明(设计)人: 长谷直基;落合隆夫;大坊忠臣;加藤侑志;大岭俊平;伊藤顺一 申请(专利权)人: 铠侠股份有限公司
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L21/8246;H01L27/105;H01L43/10
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 陈冠钦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供能降低漏磁场的磁阻效应元件和使用其的磁存储器。根据本实施方案的磁阻元件具备第1磁性层、第2磁性层以及设置于所述第1磁性层和所述第2磁性层之间的第1非磁性层,所述第2磁性层具备包含选自由Mn、Fe、Co和Ni组成的第1组的至少一种元素、选自由Ru、Rh、Pd、Ag、Os、Ir、Pt和Au组成的第2组的至少一种元素、以及选自由Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu组成的第3组的至少一种元素的磁性体。
搜索关键词: 磁阻 元件 磁存储器
【主权项】:
磁阻元件,其具备第1磁性层、第2磁性层以及设于所述第1磁性层和所述第2磁性层之间的第1非磁性层,所述第2磁性层具备包含选自由Mn、Fe、Co和Ni组成的第1组的至少一种元素、选自由Ru、Rh、Pd、Ag、Os、Ir、Pt和Au组成的第2组的至少一种元素、以及选自由Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu组成的第3组的至少一种元素的磁性体。
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