[发明专利]喷嘴和积层形成装置有效
| 申请号： | 201580046031.3 | 申请日： | 2015-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN107073648B | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 潘善盈;大野博司;中野秀士;小林晃太朗 | 申请（专利权）人： | 株式会社东芝 |
| 主分类号： | B23K26/144 | 分类号： | B23K26/144 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 根据本发明的一个实施例的喷嘴包括磁场生成部和主体。所述主体包括开口部，粉末从所述开口部被喷出。所述磁场生成部包括线圈，所述线圈被设置为在被供应以电流时生成磁场，所述磁场使得供应到所述主体的内部的所述粉末旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 喷嘴 形成 装置 | ||
【主权项】：
1.一种喷嘴，包括：主体，其包括开口部，粉末从所述开口部被喷出；以及磁场生成部，其包括线圈，所述线圈被设置为在被供应以电流时生成磁场，所述磁场使得带电且供应到所述主体的内部的所述粉末旋转且积聚。
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