[发明专利]复合半透膜、分离膜元件、及其制造方法在审
申请号: | 201580046298.2 | 申请日: | 2015-08-28 |
公开(公告)号: | CN106794433A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 水池敦子;越前将;松井和彩;山口泰辅 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | B01D69/10 | 分类号: | B01D69/10;B01D65/10;B01D69/12;G01N21/88 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所11256 | 代理人: | 杨宏军,牛蔚然 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供即使在对所使用的多孔性支撑体的厚度、制造条件等加以变更的情况下也能够维持充分的截留性能的复合半透膜、使用该复合半透膜的分离膜元件、及其制造方法。本发明的复合半透膜是在多孔性支撑体的表面具有分离功能层的复合半透膜,所述多孔性支撑体是在无纺布层的单面具有聚合物多孔层的多孔性支撑体,本发明复合半透膜的特征在于,所述多孔性支撑体在利用透射光测得的缺陷的大小与频度的关系方面具有下述关系与聚合物多孔层的制膜生产线方向垂直的宽度为0.3mm以上的缺陷的频度F1为50个/480m2以下。 | ||
搜索关键词: | 复合 半透膜 分离 元件 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
复合半透膜,其是在多孔性支撑体的表面具有分离功能层的复合半透膜,所述多孔性支撑体是在无纺布层的单面具有聚合物多孔层的多孔性支撑体,所述复合半透膜的特征在于,所述多孔性支撑体在利用透射光测得的缺陷的大小与频度的关系方面具有下述关系:与聚合物多孔层的制膜生产线方向垂直的宽度为0.3mm以上的缺陷的频度F1为50个/480m2以下。
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