[发明专利]除草三唑

摘要

本发明公开了式1的化合物，包括其所有立体异构体、其N‑氧化物及其盐，其中A、X和Y如在本公开中所定义。本发明还公开了包含式1的化合物的组合物和用于防治不期望的植被的方法，所述方法包括使所述不期望的植被或其环境与有效量的本发明的化合物或组合物接触。

主权项

一种选自式1的化合物、其N‑氧化物及其盐，其中X为R1，并且Y为‑Q1‑J1；或者X为‑Q2‑J2，并且Y为R2；R1为C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C2‑C4烯基、C2‑C4炔基、C1‑C4羟烷基或C3‑C6环烷基；Q1为C(R4)(R5)、O、S或NR6；R2为卤素、氰基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C2‑C4烷氧基烷基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C2‑C4烯基、C2‑C4炔基、C3‑C4烯氧基、C3‑C4炔氧基、C2‑C6烷基羰氧基、C1‑C4羟烷基、S(O)nR3、C2‑C4烷硫基烷基、C2‑C4烷基磺酰基烷基、C1‑C4烷氨基、C2‑C4二烷氨基或C3‑C6环烷基；Q2为C(R4′)(R5′)；每个J1和J2独立地为被1个R7取代并且任选地被碳环成员上的至多2个R8取代的6元芳族杂环环；或被碳环成员上的1个R9和氮环成员上的R11取代并且任选地被碳环成员上的1个R10取代的5元芳族杂环环；A为被至多4个R16取代的苯基；或被碳环成员上的至多3个R16和氮环成员上的R17取代的5元或6元芳族杂环环；R3独立地为C1‑C4烷基或C1‑C4卤代烷基；每个R4和R4′独立地为H、F、Cl、Br、氰基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基或CO2R13；每个R5和R5′独立地为H、F、C1‑C4烷基、OH或OR13；或者R4和R5或者R4′和R5′与它们所连接的碳合在一起以形成C(＝O)、C(＝NOR13)或C(＝N‑N(R14)(R15))；R6为H、C1‑C4烷基或C1‑C4卤代烷基；R7为SF5、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基或S(O)pR18；每个R8独立地为卤素、氰基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基或S(O)pR19；或者R7和R8合在一起以形成包含环成员的5元碳环环，所述环成员选自至多两个O原子或至多两个S原子，并且任选地在碳原子环成员上被至多五个卤素原子取代；R9为SF5、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4卤代烷氧基或S(O)pR18，其在环连接到式1的其余部分的间位处；R10为卤素、氰基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基或S(O)pR19；R11为C1‑C4烷基或C1‑C4卤代烷基；每个R13独立地为C1‑C4烷基；R14为C1‑C4烷基或C1‑C4卤代烷基；R15为C1‑C4烷基或C1‑C4卤代烷基；每个R16独立地为H、卤素、氰基、硝基、SF5、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤代烷氧基、C1‑C4烷基、C1‑C4卤代烷基、C2‑C4烯基、C2‑C4炔基、C3‑C4烯氧基、C3‑C4炔氧基或S(O)pR20；每个R17独立地为H、C1‑C4烷基或C1‑C4卤代烷基；每个R18独立地为C1‑C4卤代烷基；每个R19独立地为C1‑C4烷基或C1‑C4卤代烷基；R20为C1‑C4烷基或C1‑C4卤代烷基；n为0或1；并且每个p独立地为0、1或2；前提条件是当R1为乙基并且Q1为CH2时，则J1不是3‑三氟甲基‑1H‑吡唑‑1‑基。