[发明专利]防护膜组件、其制造方法及曝光方法有效

专利信息
申请号: 201580046947.9 申请日: 2015-09-17
公开(公告)号: CN106662806B 公开(公告)日: 2021-11-05
发明(设计)人: 高村一夫;种市大树;小野阳介;石川比佐子;美谷岛恒明;大久保敦;佐藤泰之;广田俊明 申请(专利权)人: 三井化学株式会社
主分类号: G03F1/64 分类号: G03F1/64;H01L21/027
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 钟海胜;涂琪顺
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备:第1框体,该第1框体配置有防护膜;第2框体,该第2框体具有厚部和第2面,并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围,所述厚部包含第1面,所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面,所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面;贯通孔,该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部;以及过滤器,该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面,并覆盖上述贯通孔。
搜索关键词: 防护 组件 制造 方法 曝光
【主权项】:
一种防护膜组件,其特征在于,具备:第1框体,所述第1框体配置有防护膜;第2框体,所述第2框体具有厚部和第2面,并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围,所述厚部包含第1面,所述第1面承接与所述第1框体的配置有所述防护膜的面相反侧的面,所述第2面与所述第1面连接并承接所述第1框体的侧面;贯通孔,所述贯通孔配置在所述第2框体的所述厚部;以及过滤器,所述过滤器配置在与配置有所述防护膜的所述第1框体的面交叉的所述第2框体的外侧的侧面,并覆盖所述贯通孔。
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