[发明专利]防护膜组件、其制造方法及曝光方法有效
申请号: | 201580046947.9 | 申请日: | 2015-09-17 |
公开(公告)号: | CN106662806B | 公开(公告)日: | 2021-11-05 |
发明(设计)人: | 高村一夫;种市大树;小野阳介;石川比佐子;美谷岛恒明;大久保敦;佐藤泰之;广田俊明 | 申请(专利权)人: | 三井化学株式会社 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;H01L21/027 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟海胜;涂琪顺 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供远紫外光光刻用的防护膜组件、其制造方法以及曝光方法。本发明涉及的防护膜组件具备:第1框体,该第1框体配置有防护膜;第2框体,该第2框体具有厚部和第2面,并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围,所述厚部包含第1面,所述第1面承接与上述第1框体的配置有上述防护膜的面相反侧的面,所述第2面与上述第1面连接并承接上述第1框体的侧面;贯通孔,该贯通孔配置在上述第2框体的上述厚部;以及过滤器,该过滤器配置在与配置有上述防护膜的上述第1框体的面交叉的上述第2框体的外侧的侧面,并覆盖上述贯通孔。 | ||
搜索关键词: | 防护 组件 制造 方法 曝光 | ||
【主权项】:
一种防护膜组件,其特征在于,具备:第1框体,所述第1框体配置有防护膜;第2框体,所述第2框体具有厚部和第2面,并将上述防护膜和上述第1框体从外侧包围,所述厚部包含第1面,所述第1面承接与所述第1框体的配置有所述防护膜的面相反侧的面,所述第2面与所述第1面连接并承接所述第1框体的侧面;贯通孔,所述贯通孔配置在所述第2框体的所述厚部;以及过滤器,所述过滤器配置在与配置有所述防护膜的所述第1框体的面交叉的所述第2框体的外侧的侧面,并覆盖所述贯通孔。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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