[发明专利]清洗装置以及清洗方法有效
| 申请号： | 201580047207.7 | 申请日： | 2015-07-23 |
| 公开（公告）号： | CN106796908B | 公开（公告）日： | 2019-11-26 |
| 发明（设计）人： | 岩崎顺次 | 申请（专利权）人： | 村田机械株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/677 | 分类号： | H01L21/677 |
| 代理公司： | 72002 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 徐冰冰;刘杰<国际申请>=PCT/JP2 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在桥式吊车和容器交接目的地之间，利用清洗气体对容器进行清洗。在桥式吊车的行走轨道的下方且为容器交接目的地的上方设置本地台车的行走轨道，以便供具备使容器升降的升降机的本地台车行走。在本地台车的行走轨道的下方、且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置能够自由地载置容器的清洗台，利用清洗气体供给装置朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洗装置，在桥式吊车与容器交接目的地之间利用清洗气体对容器进行清洗，具备：/n本地台车，行走自如且具备使容器升降的升降机；/n本地台车的行走轨道，设置在桥式吊车的行走轨道的下方、且为容器交接目的地的上方；/n清洗台，设置在本地台车的行走轨道的下方，且以不堵塞容器交接目的地的正上部的方式设置，能够自由地载置容器；以及/n清洗气体供给装置，朝被载置于清洗台的容器供给清洗气体，/n上述清洗台具备滑动架，该滑动架在与容器交接位置的正上部不同的位置和上述正上部之间滑动自如，/n上述清洗台还在与容器交接目的地的正上部不同的位置具备固定部，/n上述滑动架在固定部上方的位置和容器交接目的地的正上部之间滑动自如，/n上述清洗气体供给装置具备：供气嘴，设置于上述滑动架且朝容器内供给清洗气体；以及配管，从上述固定部朝上述供气嘴供给清洗气体，/n上述配管具备弯曲自如的弯曲部，/n在上述滑动架和上述固定部之间设置有将上述弯曲部支承为弯曲自如的导缆器。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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