[发明专利]安全膜在审
| 申请号： | 201580047453.2 | 申请日： | 2015-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN106796316A | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 南时旭;金京和;金珍渶;金钟沅 | 申请（专利权）人： | 可隆工业株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司11327 | 代理人： | 许向彤,李琳 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种安全膜，其包括基底层；包括线栅图案的纳米线栅偏振器层；以及至少一个信息识别层，其中所述基底层、所述纳米线栅偏振器层和所述信息识别层被层叠，使得所述至少一个信息识别层位于在从与所述基底层接触的外侧表面、所述基底层与所述纳米线栅偏振器层之间的内侧表面以及与所述纳米线栅偏振器层接触的外侧表面中的位置中选择的至少一个位置上。本发明可以通过使经由纳米印记方法制造的纳米线栅偏振膜与各种安全元件组合而提供一种高维信息存储介质，使得能够增强防止非法伪造和复制的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 安全 | ||
【主权项】：
一种安全膜，包括：基底层；包括线栅图案的纳米线栅偏振器层；以及至少一个信息识别层，其中，所述基底层、所述纳米线栅偏振器层和所述信息识别层被层叠，使得所述至少一个信息识别层被设置在选自所述基底层的外表面上的位置、所述基底层与所述纳米线栅偏振器层之间的位置以及所述纳米线栅偏振器层的外表面上的位置中的至少一个位置上。
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