[发明专利]阴离子聚合物的制造方法有效

专利信息
申请号: 201580047566.2 申请日: 2015-09-03
公开(公告)号: CN106661135B 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 畑中康宏;辻智启;须永修一 申请(专利权)人: 株式会社可乐丽
主分类号: C08F2/06 分类号: C08F2/06;C08F297/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 陈巍;鲁炜
地址: 日本冈山县*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 使用常压下的沸点比聚合温度要高的溶剂将单体进行阴离子聚合时,可以使用简便的装置迅速地除去聚合反应热,进行温度控制,提供在工业上有利地制造阴离子聚合物的方法。阴离子聚合物的制造方法,其中,在相对于常压下的沸点比聚合温度要高的溶剂1kg、惰性气体的存在量为20mmol以下的条件下,将共轭二烯、芳族乙烯基化合物或者它们的混合物进行阴离子聚合。
搜索关键词: 阴离子 聚合物 制造 方法
【主权项】:
阴离子聚合物的制造方法,其中,在相对于常压下的沸点比聚合温度要高的溶剂1kg、惰性气体的存在量为20mmol以下的条件下,将共轭二烯、芳族乙烯基化合物、或者它们的混合物进行阴离子聚合。
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