[发明专利]处理系统及元件制造方法

摘要

本发明提供提供一种即使是在以任一处理装置对片状基板实际实施的处理的状态与目标的处理状态不同时，亦能在无需停止制造系统全体的情形下，进行电子元件的制造的处理系统及元件制造方法。一种将长条的可挠性片状基板(P)沿长条方向依序搬送至第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个，以在片状基板(P)形成既定图案的处理系统(10)，第1～第3处理装置(PR2～PR4)依据设定于各个处理装置的设定条件对片状基板(P)施以既定处理，在第1～第3处理装置(PR2～PR4)的各个中对片状基板(P)实施的实处理状态中的至少一者相对目标的处理状态呈现处理误差(E)的情形时，使呈现处理误差(E)的设定条件以外的其他设定条件因应处理误差(E)变化。

主权项

1.一种元件制造方法，是一边将长条的可挠性片状基板沿长条方向搬送、一边于该片状基板形成电子元件用图案，其包含：以对该基板施以彼此互异的处理的第1处理装置、第2处理装置的顺序将该基板往长条方向搬送的搬送步骤；在设定该第1处理装置的第1处理条件下，一边将该基板往该长条方向搬送，一边对该基板施以处理的第1处理步骤；在设定于该第2处理装置的第2处理条件下，一边将经该第1处理步骤的该基板往该长条方向搬送，一边对该基板施以处理，以使该图案出现在该基板上的第2处理步骤；检测出现在该基板上的该图案的品质是否相对目标有所变化的检测步骤；在通过该第1处理装置或该第2处理装置对该基板进行实处理的状态中，在显示该图案品质有降低的倾向的情形时，判定可否变更该第1处理条件与该第2处理条件中至少一方的处理条件，且于可变更时变更该至少一方的处理条件的变更步骤。