[发明专利]磁记录介质用铝基板以及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201580049257.9 申请日: 2015-08-21
公开(公告)号: CN106688037A 公开(公告)日: 2017-05-17
发明(设计)人: 藤原直也;铃木哲雄;饭沼角王;高田悟 申请(专利权)人: 株式会社神户制钢所
主分类号: G11B5/73 分类号: G11B5/73;C25D11/10;C25D11/18;G11B5/84
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 张雨;刘林华
地址: 日本兵库*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明一个方面涉及的磁记录介质用铝基板,是包括铝板、和形成在其表面的皮膜的磁记录介质用铝基板,所述皮膜为从所述铝板侧起依次包含阳极氧化膜及SiO2膜的层叠膜,所述阳极氧化膜的膜厚为7μm以上且45μm以下,所述SiO2膜的膜厚为1μm以上且5μm以下。
搜索关键词: 记录 介质 用铝基板 及其 制造 方法
【主权项】:
一种磁记录介质用铝基板,其特征在于包括铝板、和形成在其表面的皮膜,其中,所述皮膜为从所述铝板侧起依次包含阳极氧化膜及SiO2膜的层叠膜,所述阳极氧化膜的膜厚为7μm以上且45μm以下,所述SiO2膜的膜厚为1μm以上且5μm以下。
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