[发明专利]基于三联噻吩的共轭聚合物及其应用有效
申请号: | 201580049530.8 | 申请日: | 2015-10-22 |
公开(公告)号: | CN107108860B | 公开(公告)日: | 2020-05-05 |
发明(设计)人: | 颜河;胡华伟 | 申请(专利权)人: | 天光材料科技股份有限公司 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;C07D333/06;C07D333/10 |
代理公司: | 北京信诺创成知识产权代理有限公司 11728 | 代理人: | 尹吉伟 |
地址: | 中国台湾新竹市新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了基于三联噻吩的共轭聚合物。这样的聚合物展现出良好的溶解性和极好的溶液可加工性,这些性能使所述聚合物能够用于高效OPV。 | ||
搜索关键词: | 基于 三联 噻吩 共轭 聚合物 及其 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天光材料科技股份有限公司,未经天光材料科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580049530.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于催化剂生产中泄漏检测的方法
- 下一篇:通过压缩粉碎料层的磨机