[发明专利]涡旋型流体设备

摘要

一种涡旋型流体设备，使得以阿基米德螺线形成环绕件的涡卷形状的涡旋单元的轴向上的密封性。在以阿基米德螺线形成定涡盘(2)及动涡盘(3)的环绕件(2b、3b)的涡卷形状的涡旋型流体设备(1)中，将定涡盘(2)和动涡盘(3)的环绕件外周部的精加工终点附近的环绕件壁厚(A)设为能配置顶端密封件(40、41)的最小壁厚(As)(As＝2×B1s(或B2s)+c)。B1s是从环绕件外壁至顶端密封槽的最小壁厚，B2s(＝B1s)是从环绕件内壁至顶端密封槽的最小壁厚，c(固定)为顶端密封件宽度。

主权项

1.一种涡旋型流体设备，包括：包括涡盘单元，该涡盘单元使在底板立设有涡卷状的环绕件的、且在形成于环绕件的上端面的顶端密封槽中配置有顶端密封件的定涡盘及动涡盘彼此相对，来使各自的环绕件啮合，自转受到阻止的所述动涡盘一边与所述定涡盘接触一边进行公转，在各环绕件之间形成容积随着公转发生变化的密闭空间，所述涡旋型流体设备以使环绕件壁厚随着从环绕件的中央部向外周部减小的阿基米德螺线形成所述两个涡盘的环绕件的涡卷形状，其特征在于，将两个所述涡盘中的至少一个涡盘的环绕件外周部的精加工终点附近的环绕件壁厚设为能够配置所述顶端密封件的最小壁厚，在所述精加工终点附近对所述两个涡盘中的至少定涡盘的所述顶端密封槽的螺旋形状进行切换，从而使配置于所述顶端密封槽中的所述顶端密封件在从环绕件中央部至环绕件外周部的精加工终点附近之间处于环绕件上端面的比中央部更靠环绕件外壁侧，并且在从所述精加工终点附近至顶端密封槽末端之间处于环绕件上端面的比中央部更靠环绕件内壁侧。