[发明专利]多层结构锂金属电极及其制造方法有效
申请号: | 201580049923.9 | 申请日: | 2015-10-21 |
公开(公告)号: | CN106716690B | 公开(公告)日: | 2019-12-06 |
发明(设计)人: | 孙炳国;张民哲;朴恩囧;梁斗景;崔净勋 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | H01M4/40 | 分类号: | H01M4/40;H01M4/36;H01M10/052;H01M4/1395 |
代理公司: | 11219 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 杨海荣;穆德骏<国际申请>=PCT/KR |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 本发明涉及多层结构锂金属电极及其制造方法,具体地,涉及包含如下的多层结构锂金属电极:在锂金属板上形成的氮化锂(Li3N)的缓冲层;和在所述缓冲层上形成的LiBON的保护层,并且涉及多层结构锂金属电极的制造方法,所述方法通过利用连续的反应性溅射,在锂金属板上连续形成氮化锂缓冲层和LiBON保护层而进行。通过形成所述保护层,本发明的多层结构锂金属电极可以保护锂金属的反应性免受水分或电池内环境的损害,并且防止枝晶的形成。另外,缓冲层的形成防止由在保护层形成过程中在锂金属板上形成的氧化物层引起的离子传导性的劣化。 | ||
搜索关键词: | 多层 结构 金属电极 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种多层结构锂金属电极,所述多层结构锂金属电极包含:/n锂金属板;/n缓冲层,所述缓冲层在所述锂金属板上形成且包含氮化锂;和/n保护层,所述保护层在所述缓冲层上形成且由具有由下式1表示的组成的LiBON构成:/n[式1]/nLixBOyNz/n其中x为0.9~3.51,y为0.6~3.2且z为大于0.5且小于或等于1.0。/n
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