[发明专利]磁盘用基板的制造方法有效
| 申请号： | 201580050188.3 | 申请日： | 2015-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN106716532B | 公开（公告）日： | 2019-07-02 |
| 发明（设计）人： | 岩间健太;竹内亮太郎 | 申请（专利权）人： | HOYA株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提高磁盘用基板的研磨处理后的成品率。使作为对基板的主表面进行研磨的研磨处理中所用的研磨液的原料的浆料通过过滤器，该过滤器由疏水性高分子材料构成，开口直径为100nm以下。使用通过过滤器将浆料中包含的粒径大于磨粒的平均粒径的颗粒除去后的研磨液来进行研磨处理。 | ||
| 搜索关键词： | 磁盘 用基板 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁盘用基板的制造方法，其特征在于，该磁盘用基板的制造方法包括下述研磨处理，即，用一对研磨垫夹持基板，向所述研磨垫与所述基板之间供给包含磨粒的研磨液，使所述研磨垫与所述基板相对滑动，由此对所述磁盘用基板的两主表面进行研磨，所述磨粒是平均粒径为40nm以下的胶态二氧化硅，所述研磨液通过对包含所述磨粒和板状异物的浆料实施除去所述板状异物的除去处理而得到，所述板状异物为粒径大于所述磨粒的平均粒径的大径颗粒，并且呈最大长度为厚度的5倍以上的形状，所述除去处理为使所述浆料通过由疏水性高分子材料构成且开口直径为100nm以下的过滤器的处理。
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