[发明专利]制备吡唑‑4‑甲酰胺的方法在审

专利信息
申请号: 201580052761.4 申请日: 2015-07-29
公开(公告)号: CN106715400A 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: M.J.布劳恩 申请(专利权)人: 索尔维公司
主分类号: C07D231/14 分类号: C07D231/14;A01N43/56
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司72001 代理人: 林毅斌,周李军
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摘要: 发明涉及一种用于制造吡唑‑4‑甲酰胺,特别是3‑二氟甲基‑1‑甲基‑H‑吡唑‑4‑甲酰胺的方法,这些甲酰胺作为药物和农药是有用的。这些甲酰胺是由相应的吡唑‑4‑甲酸酯和合适的胺在包含至少一种卤素配体的路易斯酸的存在下制成。可替代地,该反应在包含至少一个卤素配体的路易斯酸和碱的存在下进行。
搜索关键词: 制备 吡唑 甲酰胺 方法
【主权项】:
一种用于制造具有化学式(I)的化合物的方法其中‑R2是H或有机残基‑R3是H、具有从1至12个碳原子的烷基、具有从1至12个碳原子的卤化的烷基、芳烷基、芳基、卤素‑R4是H、具有从1至12个碳原子的烷基、具有从1至12个碳原子的卤化的烷基、芳烷基、芳基、卤素‑X是氧或硫‑Q是在此以下的式(Q1)至(Q38)中任一个的基团:其中R6是氢、C1‑12烷基、C2‑12烯基或C2‑12炔基,该基团可以被1至6个取代基取代,每个取代基独立地选自卤素、氰基、C1‑4烷氧基、C1‑4硫烷基、COO‑C1‑4烷基、=N‑OH、=N‑O‑(C1‑4烷基)、C3‑8环烷基,该基团本身可以被1至3个取代基取代,每个取代基独立地选自C1‑4烷基、卤素、C1‑4烷氧基和C1‑4卤烷氧基、以及C4‑8环烯基,该基团本身可以被1至3个取代基取代,每个取代基独立地选自C1‑4烷基、卤素、C1‑4烷氧基以及C1‑4卤烷氧基;或R6是C3‑8环烷基、C4‑8环烯基或C5‑8环二烯基,该基团可以被1至3个取代基取代,每个独立地选自卤素、C1‑4烷基、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基、C1‑4卤烷氧基、C1‑4硫烷基、C3‑6环烷基,该基团本身可以被1至3个取代基取代,每个独立地选自C1‑4烷基、卤素、C1‑4烷氧基和C1‑4卤烷氧基、以及苯基,该基团本身可以被1至5个独立选自卤素原子的取代基取代;或R6是C6‑12双环烷基、C6‑12双环烯基或C6‑12双环二烯基,该基团可以被1至3个取代基取代,每个独立地选自卤素、C1‑4烷基以及C1‑4卤烷基;或R6是苯基,该基团可以被1至3个取代基取代,每个独立地选自卤素、氰基、硝基、C1‑4烷基、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基、C1‑4烷硫基、C1‑4卤烷氧基、C1‑4卤烷硫基、C(H)=N‑OH、C(H)=N‑O(C1‑6烷基)、C(C1‑6烷基)=N‑OH、C(C1‑6烷基)=N‑O‑(C1‑6烷基)、(Z)C≡CR、(Z)nCR28=CR26R27、苯基,该基团本身可以被1至3个取代基取代,每个独立地选自卤素、氰基、硝基、C1‑4烷基、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基、C1‑4卤烷氧基、C1‑4卤烷硫基、C(H)=N‑OH、C(H)=N‑O(C1‑6烷基)、C(C1‑6烷基)=N‑OH和C(C1‑6烷基)=N‑O‑(C1‑6烷基)、以及噻吩基,该基团本身可以被1至3个取代基取代,每个独立地选自卤素、氰基、硝基、C1‑4烷基、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基、C1‑4卤烷氧基、C1‑4卤烷硫基、C(H)=N‑OH、C(H)=N‑O(C1‑6烷基)、C(C1‑6烷基)=N‑OH以及C(C1‑6烷基)=N‑O‑(C1‑6烷基);或R6是5‑6元杂环,其中该杂环含有1至3个杂原子,每个杂原子独立地选自氧、硫以及氮,其中该杂环可以被1至3个取代基取代,每个独立地选自卤素、氰基、硝基、C1‑4烷基、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基、C1‑4烷硫基、C1‑4烷硫基、C1‑4卤烷氧基、C(H)=N‑O‑(C1‑6烷基)和C(C1‑6烷基)=N‑O‑(C1‑6烷基)、C2‑5烯基、C2‑5炔基、CHO、COOC1‑C6烷基、C1‑C4烷氧基‑C1‑C4烷基、C1‑C4卤烷氧基‑C1‑C4烷基、(Z)PC≡CR、(Z)nCR28=CR26R27、苯基,该基团本身可以被1至3个取代基取代,每个独立地选自卤素、氰基、硝基、C1‑4烷基、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基、C1‑4卤烷氧基、C1‑4卤烷硫基、C(H)=N‑OH、C(H)=N‑O(C1‑6烷基)、C(C1‑6烷基)=N‑OH和C(C1‑6烷基)=N‑O‑(C1‑6烷基)、以及噻吩基,该基团本身可以被1至3个取代基取代,每个独立地选自卤素、氰基、硝基、C1‑4烷基、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基、C1‑4卤烷氧基、C1‑4卤烷硫基、C(H)=N‑OH、C(H)=N‑O(C1‑6烷基)、C(C1‑6烷基)=N‑OH以及C(C1‑6烷基)=N‑O‑(C1‑6烷基),并且其中该5‑6元杂环的相邻碳原子上的两个取代基可以一起形成基团‑CR6a‑CR6a=CR6a‑CR6a‑,其中每个R6a独立地选自氢、卤素、氰基、硝基、C1‑4烷基、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基、C1‑4卤烷氧基、C1‑4卤烷硫基、C(H)=N‑OH、C(H)=N‑O(C1‑6烷基)、C(C1‑6烷基)=N‑OH以及C(C1‑6烷基)=N‑O‑(C1‑6烷基);或R6是含有3至13个碳原子和至少一个硅原子的脂肪族饱和或不饱和基团,其中该脂肪族基团可以含有1至3个杂原子,每个杂原子独立地选自氧、氮和硫,并且其中该脂肪族基团可以被1至4个独立选自卤素原子的取代基取代;或R6是(CRaRb)m‑Cy‑(CRcRd)n‑Y1;或R6是C1‑6烷氧基、C1‑6卤烷氧基、C2‑6烯氧基、C2‑6卤烯氧基、C2‑6炔氧基、C3‑6环烷氧基、C1‑4烷基‑C3‑7环烷氧基、C5‑7环烯氧基或C1‑4烷基‑C5‑7环烯氧基;Z是C1‑4亚烷基;p是0或1;R25是氢、卤素、C1‑4烷基、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基(C1‑4)烷基、C1‑4卤烷氧基(C1‑4)烷基或Si(C1‑4烷基)3;R26和R27各自独立地是氢、卤素、C1‑4烷基或C1‑4卤烷基;R25是氢、C1‑4烷基或C1‑4卤烷基;Ra、Rb、Rc和Rd各自独立地是氢或C1‑4烷基,该基团可以被1至6个取代基取代,每个取代基独立地选自卤素、羟基、氰基、羧基、甲氧羰基、乙氧羰基、甲氧基、乙氧基、甲磺酰基、乙磺酰基、二氟甲氧基、三氟甲氧基、三氟甲硫基以及三氟硫甲氧基;Cy是碳环的或杂环的3‑7元环,该基团可以是饱和的、不饱和的或芳香族的并且该基团可以含有作为环成员的硅原子,其中(CRa Rb)m和(CRc Rd)n可以结合到Cy的相同碳原子或硅原子上或到被1、2或3个环成员隔开的不同原子上,其中该碳环的或杂环的3‑7元环可以被1至6个取代基取代,每个取代基独立地选自卤素、C1‑4烷基、C2‑4烯基、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基以及卤‑C1‑4烷氧基;Y1是Si(Op1Z1)(OqZ2)(0≤Z3)并且在Cy含有作为环成员的硅原子的条件下,于是Y1还可以是氢;Z1和Z2独立地是甲基或乙基;Z3是C1‑4烷基或C2‑4烯基,该基团可以被一个杂原子打断,该杂原子选自O、S以及N,并且其中该C1‑4烷基或C2‑4烯基可以被1至3个独立选自卤素原子的取代基取代;m和n各自独立地是0、1、2或3;p1、q和s各自独立地是0或1;R7、R8、R9、R10、R11、R12和R12a各自独立地是氢、卤素、氰基、硝基、C1‑4烷基、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基、C1‑4卤烷氧基、C1‑4硫烷基或C1‑4硫卤烷基;R13、R14、R15、R16和R17各自独立地是氢、卤素、氰基、硝基、C1‑4烷基、C(O)CH3、C1‑4卤烷基、C1‑4烷氧基、C1‑4卤烷氧基、C1‑4硫烷基、C1‑4硫卤烷基、羟甲基或C1‑4烷氧基甲基;W是单键或双键;并且Y是O、N(R18)、S或(CR19R20)(CR21R22)m1(CR23R24)n1R18是氢,C1‑4烷基,甲酰基,C1‑4烷氧基(C1‑4)烷基,C(=O)C1‑4烷基,该基团可以被卤素或C1‑4‑烷氧基取代,或C(=O)O‑C1‑6烷基,该基团可以被卤素、C1‑4烷氧基或CN取代;R19、R20、R21、R22、R23和R24各自独立地是氢、卤素、羟基、C1‑4烷氧基、C1‑6烷基,该基团可以被1至3个取代基取代,该取代基选自卤素、羟基、=O、C1‑4烷氧基、O‑C(O)‑C1‑4烷基、苯基、萘基、蒽基、芴基、茚满基或3‑7元碳环(该碳环本身可以被1至3个甲基取代)、C1‑6烯基,该基团可以被1至3个取代基取代,该取代基选自卤素、羟基、=O、C1‑4烷氧基、O‑C(O)‑C1‑4烷基、苯基、萘基、蒽基、芴基、茚满基或3‑7元碳环(该碳环本身可以被1至3个甲基取代)、或3‑7元碳环,该基团可以含有1个杂原子,该杂原子选自氮和氧,并且其中该3‑7元碳环可以被1至3个甲基取代;或R19、R20与它们所附接的碳原子一起形成羰基;3‑5元碳环,该基团可以被1至3个甲基取代;C1‑6烷叉基,该基团可以被1至3个甲基取代;或C3‑6环烷叉基,该基团可以被1至3个甲基取代;m1是0或1;n1是0或1;R13a是C1‑C4烷基、C2‑C4烯基或C2‑C4炔基,该基团可以被1至6个取代基取代,每个取代基独立地选自卤素、羟基、氰基、C1‑4烷氧基羰基、甲酰基、硝基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤烷氧基、C1‑C4烷硫基、C1‑C4卤烷硫基、HC(OR29)=N‑以及R30R31NN=C(H)‑;R29、R30和R31彼此独立地是氢或C1‑C4烷基;R13b是C1‑C6烷基,该基团可以被1至6个取代基取代,每个取代基独立地选自卤素、羟基、氰基、C1‑4烷氧基羰基、甲酰基、硝基、C1‑C4烷氧基、C1‑C4卤烷氧基、C1‑C4烷硫基、C1‑C4卤烷硫基、HC(OR32)=N‑以及R33R34NN=C(H)‑;R32、R33和R24彼此独立地是氢或C1‑C4烷基;R13c是氢或卤素;以及这些化合物的互变异构体/同分异构体/对映异构体,该方法包括使式(II)的化合物其中:‑R1是有机残基‑R2和R3是如以上所定义的;与式(III):QNHR4(III)的胺,其中Q和R4是如以上所定义的,在包含至少一个卤素配体的路易斯酸的存在下反应。
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