[发明专利]吸水性聚合物片的制造方法

摘要

以卷对卷方式制造雾度为8％以下的吸水性聚合物片的方法具有如下工序：将含有式(1)的(甲基)丙烯酰胺系季铵盐单体的光固化性树脂组合物的水分量调整为5～40质量％的工序、通过将该光固化性树脂组合物涂布于从卷出辊引出的支撑片上从而形成含水光固化性膜的工序、通过对该含水光固化性膜照射紫外线使其进行光固化从而形成吸水性聚合物片的工序、将该片卷绕到卷绕辊上的工序。CH2＝C(R1)CON(R2)‑A‑N+(R3)(R4)(R5)·X－(1)式中，R1和R2各自独立地为氢原子或低级烷基。R3和R4为低级烷基，R5为低级烷基、低级烯基或苄基，A为低级亚烷基，X－为卤素阴离子或高氯酸阴离子。

主权项

一种制造方法，是以卷对卷方式制造雾度为8％以下的吸水性聚合物片的方法，具有如下工序：光固化性树脂组合物的水分量调整工序，将含有式(1)的(甲基)丙烯酰胺系季铵盐单体的光固化性树脂组合物的水分量调整为5～40质量％，含水光固化性膜形成工序，通过将调整了水分量的光固化性树脂组合物涂布于从卷出辊引出的支撑片上从而形成含水光固化性膜，紫外线照射工序，通过对含水光固化性膜照射紫外线使其进行光固化从而在支撑片上形成吸水性聚合物片，以及吸水性聚合物片卷绕工序，将吸水性聚合物片与支撑片一同卷绕到卷绕辊上，CH2＝C(R1)CON(R2)‑A‑N+(R3)(R4)(R5)·X‑   (1)式中，R1和R2各自独立地为氢原子或低级烷基，R3和R4为低级烷基，R5为低级烷基、低级烯基或苄基，A为低级亚烷基，X‑为卤素阴离子或高氯酸阴离子。