[发明专利]光学膜及光学膜的制造方法在审

专利信息
申请号: 201580053813.X 申请日: 2015-10-02
公开(公告)号: CN107111028A 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 西尾昌二 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达株式会社
主分类号: G02B5/26 分类号: G02B5/26;G02B5/22
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 张涛
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明的技术问题在于,提供一种光学膜及其制造方法,所述光学膜具有可以根据温度环境对近红外的光线屏蔽率的热变色性进行调节,并且雾度低,即使在经过长时间的使用,也具有优异的耐皲裂性及密合性。该光学膜的特征在于,所述光学功能层具有海岛结构,所述海岛结构含有由所述粘合剂树脂所形成的海区域和由所述含二氧化钒的微粒所形成的岛区域,所述包含含二氧化钒的微粒的一次粒子及二次粒子的全部粒子的数均粒径为200nm以下,所述岛区域间的最接近壁之间的距离的平均值在1~1000nm的范围内,所述最接近壁之间的距离为1100nm以上的所述岛区域的个数相对于全部的所述岛区域的个数为10个数%以下。
搜索关键词: 光学 制造 方法
【主权项】:
一种光学膜,其具有光学功能层,所述光学功能层至少含有粘合剂树脂和含二氧化钒的微粒,其中,所述光学功能层具有海岛结构,所述海岛结构含有由所述粘合剂树脂所形成的海区域和由所述含二氧化钒的微粒所形成的岛区域,包含所述含二氧化钒的微粒的一次粒子及二次粒子的全部粒子的数均粒径为200nm以下,所述岛区域间的最接近壁之间的距离的平均值在1~1000nm的范围内,所述最接近壁之间的距离为1100nm以上的所述岛区域的个数相对于全部的所述岛区域的个数为10个数%以下。
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