[发明专利]凹凸形成装置和凹凸形成方法有效
| 申请号： | 201580053936.3 | 申请日： | 2015-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN107148354B | 公开（公告）日： | 2019-08-16 |
| 发明（设计）人： | 久保英希 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | B41J2/52 | 分类号： | B41J2/52;B29C67/00;B41J2/01;B41J2/205;B41M5/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 欧阳帆 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 凹凸形成装置的MTF特性取决于输入数据的振幅量、装置的操作条件等而改变，因此不可能仅通过应用在图像处理领域中众所周知的MTF校正技术来形成具有良好特性的凹凸形状。一种凹凸形成装置包括：输入单元，被配置为输入表示待打印对象的凹凸的凹凸数据；以及校正单元，被配置为基于在打印介质上形成凹凸的情况下的频率响应特性，对所输入的凹凸数据执行校正，该校正根据输入的凹凸数据的多个频带并且使得所输入的凹凸数据的振幅越大，则校正的强度越高。 | ||
| 搜索关键词： | 凹凸 形成 装置 方法 以及 程序 | ||
【主权项】：
1.一种控制装置，包括：输入单元，被配置为输入表示待打印的对象的凹凸的凹凸数据；以及校正单元，被配置为基于在打印介质上形成凹凸的情况下的频率响应特性，对所输入的凹凸数据执行校正，所述校正是根据所输入的凹凸数据的多个频带的，并且使得所输入的凹凸数据的振幅越大，则所述校正的强度越高，其中，所述频率响应特性是以下特性：由凹凸形成装置输出的对象的凹凸的形状与由所输入的凹凸数据表示的对象的凹凸的形状相比由于与材料的湿扩展有关的特性而变钝。
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