[发明专利]用于高分辨率后向反射成像应用的更高精度角隅棱镜阵列有效
| 申请号： | 201580055051.7 | 申请日： | 2015-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN107110999B | 公开（公告）日： | 2019-09-10 |
| 发明（设计）人： | K·鲍威尔;J·卢蒂安 | 申请（专利权）人： | 微软技术许可有限责任公司 |
| 主分类号： | G02B1/113 | 分类号： | G02B1/113;G02B5/124 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 蔡悦;胡利鸣 |
| 地址： | 美国华*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 可通过利用诸如硅之类的立方晶体点阵的蚀刻或生长技术以接近原子精确度的数量级来形成用于后向成像系统的工具和光学元件。可直接使用通过涂覆和透明树脂层压的选择性蚀刻或外延生长来形成元件，或者通过低收缩树脂或双填充模制技术的使用来复制元件以避免收缩和弯曲。通过使用这些高度精确的反射/衍射元件，漂浮图像可例如在后向反射成像系统中以相对高的分辨率被形成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 高分辨率 反射 成像 应用 更高 精度 棱镜 阵列 | ||
【主权项】：
1.一种后向反射阵列，包括：角隅棱镜阵列；覆盖所述角隅棱镜阵列的多个角隅棱镜结构的刻面的反射表面；被施加在所述多个角隅棱镜上的透明树脂层；在所述后向反射阵列上成型的光学透明树脂填充介质的平坦层；以及被施加在所述透明树脂层上的透明基板，其中所述透明基板包括在外表面和内表面中的一者上的双折射。
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