[发明专利]一种光栅耦合器及制备方法有效
| 申请号： | 201580055453.7 | 申请日： | 2015-06-11 |
| 公开（公告）号： | CN107076932B | 公开（公告）日： | 2019-10-18 |
| 发明（设计）人： | 李明;涂鑫;付红岩 | 申请（专利权）人： | 华为技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/34 | 分类号： | G02B6/34;G02B6/124;G02B5/18 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 518129 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种光栅耦合器及其制备方法。该光栅耦合器包括：依次排列的衬底层(0)、下限制层(1)、波导芯层(2)和上限制层(3)。该波导芯层(2)包括亚微米波导(4)、第一锥形波导(5)和波导阵列(6)。该波导阵列(6)包括至少两个波导群，该波导群包括至少一条波导链，该波导链包括至少两个宽度不同的波导，该波导链中的该波导相互连接。同一该波导群的该波导链中波导的宽度和排列结构相同，不同该波导群的该波导链中波导的宽度和/或排列结构不同。该波导阵列(6)中该波导链的一端与该第一锥形波导(5)宽的一端连接，该第一锥形波导(5)窄的一端与该亚微米波导(4)连接。该光栅耦合器能提高带宽。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光栅 耦合器 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光栅耦合器，其特征在于，包括：依次排列的衬底层、下限制层、波导芯层和上限制层；所述波导芯层包括亚微米波导、第一锥形波导和波导阵列；所述波导阵列包括至少两个波导群，所述波导群包括至少一条波导链，所述波导链包括至少两个宽度不同的波导，所述波导链中的所述波导相互连接，同一所述波导群包括的所述波导链中波导的宽度和排列结构相同，不同所述波导群包括的所述波导链中波导的宽度和/或排列结构不同；其中，所述波导阵列中所述波导链的一端与所述第一锥形波导宽的一端连接，所述第一锥形波导窄的一端与所述亚微米波导连接；所述光栅耦合器还包括第二锥形波导，用于连接所述波导链中宽度不同的所述波导。
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