[发明专利]纳米晶体的排列方法、纳米晶体结构体的制作方法、纳米晶体结构体形成基板及纳米晶体结构体形成基板的制造方法有效
| 申请号： | 201580055867.X | 申请日： | 2015-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN107074580B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 三村宪一;加藤一实 | 申请（专利权）人： | 国立研究开发法人产业技术总合研究所 |
| 主分类号： | C01G23/00 | 分类号： | C01G23/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王利波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的一个方式的纳米晶体的排列方法具有以下工序：第1工序，将钛酸钡纳米晶体和/或钛酸锶纳米晶体和非极性溶剂加入容器中；第2工序，从容器内采集含有钛酸钡纳米晶体和/或钛酸锶纳米晶体的上清液；第3工序，通过将具有凹凸结构的基板浸渍于所述上清液并捞起，利用毛细管现象将所述上清液涂布于所述凹凸结构表面，使所述纳米晶体在所述凹凸结构上排列。 | ||
| 搜索关键词： | 纳米 晶体 排列 方法 晶体结构 制作方法 体形 成基板 制造 | ||
【主权项】：
一种纳米晶体的排列方法，该方法具有以下工序：第1工序，将钛酸钡纳米晶体和/或钛酸锶纳米晶体和非极性溶剂加入容器中；第2工序，从所述容器内采集含有钛酸钡纳米晶体和/或钛酸锶纳米晶体的上清液；第3工序，通过将具有凹凸结构的基板浸渍于所述上清液并捞起，利用毛细管现象将所述上清液涂布于所述凹凸结构表面，使所述纳米晶体在所述凹凸结构上排列。
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