[发明专利]通过化学气相沉积法合成有序微孔碳在审
申请号: | 201580055868.4 | 申请日: | 2015-10-14 |
公开(公告)号: | CN107427812A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | Y·王;杰马尔·埃尔詹;M·拉什德·奥斯曼;S·崔;M·崔 | 申请(专利权)人: | 沙特阿拉伯石油公司;韩国科学技术院 |
主分类号: | B01J20/20 | 分类号: | B01J20/20;B01J20/28;B01J20/30;B01J20/32;B01J3/00;B01J19/24;C01B32/05 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 王静,张珂珂 |
地址: | 沙特阿拉*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种甲烷微孔碳吸附剂以及形成该甲烷微孔碳吸附剂的有序合成法,该甲烷微孔碳吸附剂包含经热处理的CVD碳,其具有结晶沸石的阴性复制物形式的形状,并具有BET比表面积、微孔体积、微孔/中孔体积比、储存甲烷值和甲烷输送值。在化学气相沉积(CVD)阶段将有机前体气体引入保持在CVD温度下的结晶沸石以形成碳‑沸石复合物。在热处理阶段,将非反应性气体引入保持在热处理温度的碳‑沸石复合物以形成经热处理的碳‑沸石复合物。向经热处理的碳‑沸石复合物中引入水性强无机酸混合物以形成甲烷微孔碳吸附剂。 | ||
搜索关键词: | 通过 化学 沉积 合成 有序 微孔 | ||
【主权项】:
一种形成甲烷微孔碳吸附剂的有序碳合成法,该方法的特征在于包括以下步骤:在化学气相沉积(CVD)阶段,将包含有机前体的有机前体气体引入保持在CVD温度下的结晶沸石中,以形成碳‑沸石复合物,其中所引入的有机前体通过CVD吸附到所述结晶沸石中,所述有机前体在所述结晶沸石中转化成碳并形成沸石碳模板;在热处理阶段将非反应性气体引入保持在热处理温度下的所述碳‑沸石复合物,以形成经热处理的碳‑沸石复合物,其中所述结晶沸石内的所述沸石碳模板转化为经热处理的沸石碳模板;和向所述经热处理的碳‑沸石复合物中引入水性强无机酸混合物,以使所述结晶沸石溶解并形成甲烷微孔碳吸附剂,其中所述甲烷微孔碳吸附剂是所述结晶沸石的阴性复制物,并且所述甲烷微孔碳吸附剂具有BET比表面积、微孔体积、微孔/中孔体积比、储存甲烷值和甲烷输送值。
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