[发明专利]分子筛SSZ-102及其合成有效

专利信息
申请号: 201580056127.8 申请日: 2015-05-19
公开(公告)号: CN107074568B 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 谢丹;S·I·佐内斯 申请(专利权)人: 雪佛龙美国公司
主分类号: C01B39/48 分类号: C01B39/48;B01J20/18;B01J29/70
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 孙爱
地址: 美国加*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明公开了一种具有ESV骨架拓扑结构的称为SSZ‑102的新型结晶分子筛。SSZ‑102使用N,N'‑二甲基‑1,4‑二氮杂双环[2.2.2]辛烷二价阳离子作为结构导向剂合成。
搜索关键词: 分子筛 ssz 102 及其 合成
【主权项】:
1.一种具有ESV骨架拓扑结构并具有5至12的SiO2/Al2O3摩尔比的结晶分子筛,其中所述分子筛以其煅烧形式具有如下表所示的X射线衍射图:2‑θd‑间隔,nm相对强度7.60±0.201.162W8.01±0.201.103M9.74±0.200.908M12.02±0.200.736M13.44±0.200.658VS13.70±0.200.646VS14.11±0.200.627VS14.56±0.200.608W15.30±0.200.579W15.87±0.200.558W16.20±0.200.547W17.16±0.200.516W17.96±0.200.493W18.38±0.200.482W19.12±0.200.464VS19.31±0.200.459VS19.70±0.200.450S20.39±0.200.435W20.89±0.200.425W21.16±0.200.419M21.34±0.200.416M
其中所提供的粉末XRD图基于相对强度标度,其中X射线衍射图中的最强线被指定为100:W=弱,即>0至≤20;M=中,即>20至≤40;S=强,即>40至≤60;VS=非常强,即>60至≤100。
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