[发明专利]表皮用支承框及制造方法有效
| 申请号： | 201580058273.4 | 申请日： | 2015-09-09 |
| 公开（公告）号： | CN107077062B | 公开（公告）日： | 2020-12-25 |
| 发明（设计）人： | 石户伸幸 | 申请（专利权）人： | 日本轻金属株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;B23K20/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 韩俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 表皮用支承框(1A)包括铝合金制的框体(10)，在框体(10)的正面(10a)粘接有表皮覆膜，在框体(10)的背面粘接有透明基板。在框体(10)的内部沿框体(10)的周向排列设置有多个中空部(51～53)，在相邻的两个中空部(51～53)之间形成有从框体(10)的外周面(10c)直至内周面(10d)的通孔(20)。在上述结构中，能防止在将支承框(1A)粘接到透明基板之后，在支承框(1A)及透明基板上发生翘曲的情况。 | ||
| 搜索关键词： | 表皮 支承 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种表皮用支承框，包括铝合金制的框体，在所述框体的正面粘接有表皮覆膜，在所述框体的背面粘接有透明基板，其特征在于，在所述框体的内部沿所述框体的周向排列设置有多个中空部，在相邻的两个所述中空部之间形成有从所述框体的外周面直至内周面的通孔。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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