[发明专利]测量目标结构的属性的方法、检查设备、光刻系统和器件制造方法有效
| 申请号： | 201580058279.1 | 申请日： | 2015-08-20 |
| 公开（公告）号： | CN107077079B | 公开（公告）日： | 2018-12-14 |
| 发明（设计）人： | M·博兹库尔特;M·J·J·加克;P·A·J·廷尼曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 基于目标的图像的强度测量目标结构的属性。方法包括(a)获得目标结构的图像；(b)限定(1204)多个候选感兴趣区域，各候选感兴趣区域包括在图像中的多个像素；(c)至少部分基于在感兴趣区域内的像素的信号值来限定(1208，1216)用于候选感兴趣区域的优化度量值；(d)限定(1208，1216)目标信号函数，目标信号函数限定了图像中的各像素对目标信号值的贡献。各像素的贡献取决于(i)哪个候选感兴趣区域包含该像素和(ii)那些候选感兴趣区域的优化度量值。 | ||
| 搜索关键词： | 测量 目标 结构 属性 方法 检查 设备 光刻 系统 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种测量衬底上的目标结构的属性的方法，所述方法包括如下步骤：(a)使用由所述目标结构在照射下衍射的辐射的预定部分获得所述目标结构的图像；(b)限定多个候选感兴趣区域，各候选感兴趣区域包括在所述图像中的多个像素；(c)至少部分基于所述感兴趣区域内的像素的信号值，限定用于所述候选感兴趣区域的优化度量值；(d)直接或间接限定目标信号函数，所述目标信号函数限定了所述图像中的各像素对目标信号值的贡献，各像素的所述贡献取决于(i)哪个候选感兴趣区域包含该像素和(ii)那些候选感兴趣区域的优化度量值；以及(e)使用通过根据限定的所述目标信号函数将来自检测到的图像的多个像素信号值组合而直接或间接计算的目标信号值，来获得相同目标结构或不同目标结构的属性的测量。
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