[发明专利]基板清洗辊、基板清洗装置及基板清洗方法有效
| 申请号： | 201580058746.0 | 申请日： | 2015-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN107078046B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 石桥知淳 | 申请（专利权）人： | 株式会社荏原制作所 |
| 主分类号： | H01L21/304 | 分类号： | H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种可清洗基板的最边缘部的基板清洗辊以及使用其的基板清洗装置。基板清洗装置(10)具备：主轴(11)，保持基板(S)；下部基板清洗辊(13)，具有圆柱形状，以长度方向与基板(S)的表面平行的方式接触基板(S)，并绕长度方向的旋转轴旋转，用于擦洗清洗基板(S)的表面；上下驱动机构，将下部基板清洗辊(13)按压于基板(S)的下侧表面使得长度方向与基板(S)的表面成水平；以及旋转驱动机构，使被上下驱动机构按压于基板(S)的下侧表面的下部基板清洗辊(13)绕旋转轴旋转。下部基板清洗辊(13)在长度方向的至少一端侧具备边缘结(135)，该边缘结(135)具有倾斜面(1351)，在下部基板清洗辊(13)接触基板(S)时，倾斜面(1351)与基板(S)的周缘的斜面部B的最边缘部(侧部R)抵接触碰。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种基板清洗辊，具有圆柱形状，以长度方向与所述基板的表面平行的方式与基板接触，并绕所述长度方向的旋转轴旋转，从而用于擦洗清洗所述基板的表面，该基板清洗辊的特征在于：在所述长度方向的至少一端侧具备斜面清洗部，该斜面清洗部具有倾斜面，在所述基板清洗辊与所述基板接触而清洗所述基板表面时，所述倾斜面与所述基板的周缘的斜面部的最边缘部抵接触碰。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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