[发明专利]光电子器件和制造光电子器件的方法有效
申请号: | 201580058886.8 | 申请日: | 2015-11-05 |
公开(公告)号: | CN107112419B | 公开(公告)日: | 2019-07-05 |
发明(设计)人: | 戚亚冰;郑敏喆;S·鲁伊斯·拉格 | 申请(专利权)人: | 学校法人冲绳科学技术大学院大学学园 |
主分类号: | H01L51/44 | 分类号: | H01L51/44;H01L51/46;H01L51/48 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;吕俊刚 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 光电子器件和制造光电子器件的方法。提供了一种光电子器件,该器件包括包含有机金属卤化物钙钛矿的有源层和通过真空蒸发形成并被配置成传输空穴载流子的空穴传输层(HTL)。HTL包括:第一子层,该第一子层包括掺杂有n掺杂物并与有源层相邻设置的空穴传输材料(HTM);第二子层,该第二子层包括未掺杂并与第一子层相邻设置的HTM;以及第三子层,该第三子层包括掺杂有p掺杂物并且与第二子层相邻设置的HTM。用于n掺杂子层的n掺杂物的掺杂浓度被确定为使n掺杂子层的最高占据分子轨道能级与钙钛矿有源层的价带最大能级相匹配。 | ||
搜索关键词: | 用于 基于 钙钛矿 器件 掺杂 工程 空穴 传输 | ||
【主权项】:
1.一种光电子器件,所述光电子器件包括:有源层,所述有源层包括有机金属卤化物钙钛矿;以及空穴传输层HTL,所述HTL通过真空蒸发形成并且被配置成传输空穴载流子,所述HTL包括:第一子层,所述第一子层包括掺杂有n掺杂物并且与所述有源层相邻设置的空穴传输材料HTM;第二子层,所述第二子层包括未掺杂并且与所述第一子层相邻设置的所述HTM;以及第三子层,所述第三子层包括掺杂有p掺杂物并且与所述第二子层相邻设置的所述HTM。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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