[发明专利]用于制造微柱阵列的系统和方法有效
| 申请号： | 201580061637.4 | 申请日： | 2015-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN107001030B | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | S·乌尼克里西南;R·J·亨德里克斯 | 申请（专利权）人： | 荷兰应用自然科学研究组织TNO |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;C09D11/00;G03F7/004;G03F7/20;G03F7/40 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 杨丽;钱孟清 |
| 地址： | 荷兰*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于制造微柱阵列(20)的系统和方法。载体(11)被提供有金属油墨(20i)层。高能量光源(14)经由载体(11)和光源之间的掩模(13)照射金属油墨(20i)。掩模被配成将微柱阵列的横截面照射图像转移到金属油墨(20i)上，从而导致金属油墨(20i)的图案化烧结，以便在金属油墨(20i)层中形成微柱阵列(20)的第一分段层(21)。另一层金属油墨(20i)被施加在微柱阵列(20)的第一分段层(21)的顶部之上，并经由掩模(13)被照射以在上面形成微柱阵列的第二分段层(21)。该过程被重复以实现高纵横比的微柱20p。 | ||
| 搜索关键词： | 金属油墨 微柱阵列 分段层 掩模 照射 高能量光源 高纵横比 图像转移 烧结 图案化 微柱 光源 制造 施加 重复 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造微柱阵列(20)的系统(100)，所述系统(100)包括：‑被配置为保持载体(11)的平台(12)；‑包括金属油墨(20i)的供给(15s)的沉积装置(15)，其中所述沉积装置(15)被配置成将金属油墨(20i)层提供到所述载体(11)上；‑光源(14)，所述光源(14)被配置成提供能够烧结所述金属油墨(20i)的光(L)；‑在所述光源(14)和所述载体(11)之间的掩模(13)，其中所述掩模(13)包括掩模图案(13p)，所述掩模图案被配置成根据所述微柱阵列(20)的横截面图像来图案化所述光(L)，其中所述光源(14)和所述掩模(13)被配置成使图案化的光照射到所述金属油墨(20i)层上，从而导致所述金属油墨(20i)图案化烧结以在所述金属油墨(20i)中形成所述微柱阵列(20)的分段层(21、22)；‑控制器(30)，所述控制器(30)被布置成控制所述沉积装置(15)、所述光源(14)、和所述平台(12)；以及‑计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质可操作地链接到所述控制器并包括程序指令，当所述程序指令被所述控制器执行时导致所述控制器重复执行以下步骤：○控制所述沉积装置(15)在所述微柱阵列(20)的先前形成的分段层(21)上提供另一层金属油墨(20i)；以及○控制所述光源(14)将所述图案化的光(L)提供到所述另一层金属油墨(20i)上，以在所述先前形成的分段层(21)上在所述金属油墨(20i)中形成所述微柱阵列(20)的另一分段层(22)。
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