[发明专利]高覆盖天线阵列和栅瓣层使用方法有效

专利信息
申请号: 201580062179.6 申请日: 2015-12-01
公开(公告)号: CN107004946B 公开(公告)日: 2020-04-14
发明(设计)人: 翟文曜 申请(专利权)人: 华为技术有限公司
主分类号: H01Q1/38 分类号: H01Q1/38
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 马爽;臧建明
地址: 518129 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种具有第一和第二平面阵列的实施例天线。所述第一阵列在x维度和y维度上具有第一元件间隔,并且工作于第一频带。所述第二阵列在x维度和y维度上具有第二元件间隔,并且工作于第二频带。所述第二平面阵列与所述第一平面阵列在z维度上分开,以使所述阵列共孔工作,并且平行于所述第一平面阵列且在所述第一平面阵列的近场中设置。所述第二平面阵列的元件在u‑v平面中设置且方向可控,以使由所述第一平面阵列生成的第一多个栅瓣与由所述第二平面阵列生成的第二多个栅瓣相互交叉。
搜索关键词: 覆盖 天线 阵列 栅瓣层 使用方法
【主权项】:
一种天线系统,包括:第一平面阵列,所述第一平面阵列在x维度和y维度上具有第一元件间隔,并且工作于第一频带;以及第二平面阵列,所述第二平面阵列在x维度和v维度上具有第二元件间隔,并且工作于第二频带;其中,所述第二平面阵列与所述第一平面阵列在z维度上分开,以使所述第一平面阵列和所述第二平面阵列共孔工作,所述第二平面阵列平行于所述第一平面阵列,且在所述第一平面阵列的近场中设置,并且所述第二平面阵列的元件在u‑v平面中设置且方向可控,以使由所述第一平面阵列生成的第一多个栅瓣与由所述第二平面阵列生成的第二多个栅瓣相互交叉。
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