[发明专利]用于感测外部磁场的MLU单元和包括MLU单元的磁性传感器装置有效

专利信息
申请号: 201580062760.8 申请日: 2015-11-18
公开(公告)号: CN107076810B 公开(公告)日: 2020-03-31
发明(设计)人: S.班迪伊拉 申请(专利权)人: 克罗科斯科技公司
主分类号: G01R33/09 分类号: G01R33/09
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 吴超;傅永霄
地址: 法国格*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开涉及一种用于感测外部磁场的MLU单元,其包括磁隧道结,所述磁隧道结包含:感测层,其具有适于通过外部磁场定向的感测磁化;参考层,其具有参考磁化;隧道势垒层;具有偏置磁化的偏置层和偏置反铁磁层,所述偏置反铁磁层在低阈值温度下钉扎基本上平行于被钉扎的参考磁化的偏置磁化并在高阈值温度下解放其;在感测层与偏置层之间的偏置耦合层,所述偏置耦合层被配置成用于磁耦合偏置层和感测层使得感测磁化被定向成基本上垂直于被钉扎的偏置磁化和被钉扎的参考磁化。本公开进一步涉及一种用于感测外部磁场的磁性传感器装置,其包括多个MLU单元。
搜索关键词: 用于 外部 磁场 mlu 单元 包括 磁性 传感器 装置
【主权项】:
一种用于感测外部磁场的MLU单元(1),其包括磁隧道结(2),所述磁隧道结包含:感测层(21),其具有适于通过所述外部磁场定向的感测磁化(210);参考层(23),其具有参考磁化(230);参考反铁磁层(24),其在低阈值温度(TL)下钉扎所述参考磁化(230)并在高阈值温度(TH)下解放所述参考磁化(230);以及在所述感测层(21)与所述参考层(23)之间的隧道势垒层(22);具有偏置磁化(270)的偏置层(27)和偏置反铁磁层(26),所述偏置反铁磁层在所述低阈值温度(TL)下钉扎所述偏置磁化(270)并在所述高阈值温度(TH)下解放所述偏置磁化(270);以及所述被钉扎的偏置磁化(270)被定向成基本上平行于所述被钉扎的参考磁化(230);在所述感测层(21)与所述偏置层(27)之间的偏置耦合层(28),所述偏置耦合层(28)包括反铁磁性类型的磁性材料并且被配置成用于磁耦合所述偏置层(27)和所述感测层(21),使得所述感测磁化(210)被定向成基本上垂直于所述被钉扎的偏置磁化(270)和所述被钉扎的参考磁化(230);其特征在于:所述磁隧道结(2)进一步包括在所述感测层(21)与所述偏置耦合层(28)之间的非磁性间隔物层(29),所述非磁性间隔物层(29)包括下述中的一者:Ta、Mg、Al、Ru、Cu、Pt、Pd、Hf、Cr、Nb、Zn或含有这些元素中的任一者的任何合金或氧化物,且被配置成用于调节所述耦合层(28)的所述磁耦合的强度。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于克罗科斯科技公司,未经克罗科斯科技公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201580062760.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top