[发明专利]用于加热表面的方法和装置有效
| 申请号： | 201580063123.2 | 申请日： | 2015-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN107006075B | 公开（公告）日： | 2019-08-06 |
| 发明（设计）人： | S·M·加斯沃思 | 申请（专利权）人： | 沙伯基础全球科技有限公司 |
| 主分类号： | H05B3/00 | 分类号： | H05B3/00;H05B3/20 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 江侧燕 |
| 地址： | 荷兰贝亨*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 在一个实施例中，加热装置包括发射源辐射的辐射源、包括发射层主体材料和发光剂的辐射发射层，其中辐射发射层包括边缘、发射层第一表面和发射层第二表面；其中辐射源连接到边缘，其中源辐射从辐射源通过边缘传输并激发发光剂，之后发光剂发射出发射的辐射，其中发射的辐射的至少一部分经由逸出锥离开发射层第二表面；吸收层，其中吸收层包括吸收层第一表面，并且其中吸收层第一表面与发射层第二表面直接接触，其中吸收层包含吸收经由逸出锥离开的发射的辐射的吸收剂。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 加热 表面 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种加热装置，包括：发射源辐射的辐射源，包括发射层主体材料和发光剂的辐射发射层，其中所述辐射发射层包括边缘、发射层第一表面和发射层第二表面；其中所述边缘具有高度dL，所述发射层第一表面具有长度L，其中长度L大于高度dL，并且长度L与高度dL的比大于或等于10；其中所述辐射源连接到所述边缘，其中所述源辐射从所述辐射源通过边缘传输并激发所述发光剂，之后所述发光剂发射出发射的辐射，其中所述发射的辐射的至少一部分经由逸出锥离开所述发射层第二表面；吸收层，其中所述吸收层包括吸收层第一表面，并且其中所述吸收层第一表面与所述发射层第二表面直接接触，其中所述吸收层包含吸收剂，所述吸收剂吸收通过所述逸出锥离开的发射的辐射。
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