[发明专利]树脂膜形成用片、树脂膜形成用复合片、及硅晶片的再生方法有效
| 申请号： | 201580063556.8 | 申请日： | 2015-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN107001664B | 公开（公告）日： | 2020-05-12 |
| 发明（设计）人： | 佐伯尚哉;山本大辅;米山裕之;稻男洋一 | 申请（专利权）人： | 琳得科株式会社 |
| 主分类号： | C08J5/18 | 分类号： | C08J5/18;B32B27/16;B32B27/30;C09J7/30;C09J133/04;C09J133/18;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王利波 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种再剥离性及端部密合性优异的树脂膜形成用片，其是粘贴于硅晶片、用于在该硅晶片上形成树脂膜的片，其中，该树脂膜形成用片满足下述要件(I)～(III)。要件(I)：待与硅晶片粘贴一侧的所述树脂膜形成用片的表面(α)的表面粗糙度(Ra)为50nm以下；要件(II)：所述树脂膜形成用片的表面(α)相对于硅晶片的粘合力(α1)为1.0～7.0N/25mm；要件(III)：和待与硅晶片粘贴一侧相反侧的所述树脂膜形成用片的表面(β)相对于具有由特定粘合剂形成的厚度10～50μm的粘合剂层的粘合片的该粘合剂层的粘合力(β1)为4.0N/25mm以上。 | ||
| 搜索关键词： | 树脂 形成 复合 晶片 再生 方法 | ||
【主权项】：
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