[发明专利]投影系统、光刻设备及其控制方法

摘要

一种用于光刻设备的投影系统(PS1)包括：光学路径(100)、多个传感器(S1‑S4)、一个或更多个致动器(A1‑A4)；和控制器(CN)。所述光学路径能够操作以接收输入辐射束(Bin)和将输出辐射束(Bout)投影到衬底上以形成图像。所述光学路径包括多个光学元件(M1‑M4)，所述多个光学元件包括第一组至少两个光学元件(M1，M4)和第二组至少一个光学元件(M2，M3)。每个传感器与所述多个光学元件中的一个相关联且能够操作以确定该光学元件的位置。每个致动器与所述第二组光学元件中的一个相关联且能够操作以调整该光学元件。所述控制器能够操作以使用所述一个或更多个致动器以依赖于第一组光学元件所确定的位置来调整所述第二组光学元件，以便于至少部分地补偿由所述第一组光学元件的位置所造成的光学像差和/或视线误差。

主权项

1.一种用于光刻设备的投影系统，所述投影系统包括：光学路径，所述光学路径能够操作以接收输入辐射束和将输出辐射束投影到衬底上以形成图像，所述光学路径包括多个光学元件，所述多个光学元件包括第一组至少两个光学元件和第二组至少一个光学元件，多个传感器，每个传感器与所述多个光学元件中的一个光学元件相关联且能够操作以确定该光学元件的位置；一个或更多个致动器，每个致动器与第二组光学元件中的一个光学元件相关联且能够操作以调整该光学元件；和控制器，其中所述控制器能够操作以使用所述一个或更多个致动器以根据第一组光学元件的已确定的位置来调整第二组光学元件，以至少部分地补偿由第一组光学元件的位置所造成的光学像差和/或视线误差，其中，第一组光学元件中的每个光学元件具有比第二组光学元件中的每个光学元件更低的谐振频率，第二组光学元件中的每个光学元件具有比第一组光学元件中的每个光学元件更高的控制带宽，以使得第二组光学元件中的每个光学元件具有比第一组光学元件中的每个光学元件更高的追踪准确度。