[发明专利]R-T-B系烧结磁体的制造方法有效

专利信息
申请号: 201580067653.4 申请日: 2015-12-04
公开(公告)号: CN107004499B 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 三野修嗣 申请(专利权)人: 日立金属株式会社
主分类号: H01F41/02 分类号: H01F41/02;B22F1/00;B22F3/24;C22C28/00;C22C33/02;C22C38/00;H01F1/057;H01F1/08
代理公司: 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的R-T-B系烧结磁体的制造方法,包括在R-T-B系烧结磁体的表面存在有RLM合金(RL为Nd和/或Pr,M为选自Cu、Fe、Ga、Co、Ni、Al中的1种以上的元素)粉末和RH化合物(RH为Dy和/或Tb,RH化合物为RH氟化物和/或RH氟氧化物)粉末的状态下,在R-T-B系烧结磁体的烧结温度以下进行热处理的工序。RLM合金含有50原子%以上的RL,并且上述RLM合金的熔点在上述热处理温度以下。热处理在RLM合金粉末和RH化合物粉末以RLM合金﹕RH化合物=9.6﹕0.4~5﹕5的质量比率存在于R-T-B系烧结磁体表面的状态下进行。
搜索关键词: 烧结 磁体 制造 方法
【主权项】:
1.一种R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于,包括:准备R-T-B系烧结磁体的工序;和在所述R-T-B系烧结磁体的表面存在有RLM合金粉末和含有RH化合物粉末和树脂成分的片状成型体的状态下,在所述R-T-B系烧结磁体的烧结温度以下进行热处理的工序,其中,RL为Nd和/或Pr,M为选自Cu、Fe、Ga、Co、Ni、Al中的1种以上的元素,RH为Dy和/或Tb,RH化合物为RH氟化物和/或RH氟氧化物,所述RLM合金含有50原子%以上的RL,并且所述RLM合金的熔点在所述热处理的温度以下,所述热处理在所述RLM合金的粉末和所述RH化合物的粉末以RLM合金﹕RH化合物=9.6﹕0.4~5﹕5的质量比率存在于所述R-T-B系烧结磁体表面的状态下进行。
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