[发明专利]用于在具有束减速的离子注入器中进行束角度调整的系统和方法在审
申请号: | 201580067666.1 | 申请日: | 2015-12-28 |
公开(公告)号: | CN107094371A | 公开(公告)日: | 2017-08-25 |
发明(设计)人: | 伯·范德伯格;爱德华·艾伊斯勒 | 申请(专利权)人: | 艾克塞利斯科技公司 |
主分类号: | H01J37/05 | 分类号: | H01J37/05;H01J37/09;H01J37/147;H01J37/317 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 周泉 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 离子注入系统(110)使用质量分析器(126)来进行质量分析和角度校正。离子源沿束路径产生离子束(124)。质量分析器放置在离子源的下游,所述质量分析器对离子束执行质量分析和角度校正。位于孔径组件(133)内的分辨孔径(134)位于质量分析器部件的下游并位于束路径上。分辨孔径具有根据所选择的质量分辨率以及离子束的束包络的尺寸和形状。角度测量系统(156)位于分辨孔径的下游并获得离子束的入射角值。控制系统(154)根据来自角度测量系统的离子束的入射角值导出针对质量分析器的磁场调整。 | ||
搜索关键词: | 用于 具有 减速 离子 注入 进行 角度 调整 系统 方法 | ||
【主权项】:
一种离子注入系统,包括:离子源,从该离子源提取离子束;分析器磁体,被配置为对所提取的束进行质量分析并沿第一轴和第二轴之一选择性地输出经质量分析的束,所述第一轴和工件在额定入射角处相交,所述第二轴和所述工件在调整入射角处相交,其中,所述调整入射角与所述额定入射角不同;偏转元件,被配置为在漂移模式和减速模式之一中沿所述第二轴来选择性地偏转所述经质量分析的束;可移动的质量分辨狭缝,用于引导所述离子束;以及端台,被配置为支撑要被注入来自所述经质量分析的束的离子的工件。
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