[发明专利]用于光瞳对称化的方法和设备

摘要

一种检查设备可以使用光瞳对称化器确定衬底上目标的精确OV测量值以减小检查设备对于光瞳面中照射光束的非对称性和非均匀性的敏感性。检查设备包括照射系统，其通过(1)分割照射束为子光束，(2)引导子光束沿着不同光学分支，(3)在两个维度中反转或旋转至少一个子光束，并且沿着照射路径重新组合子光束以对称化强度分布，从而形成了对称照射光瞳。进一步配置照射系统以使得第一子光束和第二子光束具有大于至少一个光源的时间相干性长度并小于物镜光学系统的光瞳面中焦深的光程差。

主权项

1.一种用于套刻测量的散射仪，所述散射仪包括：照射系统，被配置用于输送至少一个辐射光束；物镜光学系统，被配置用于将所述至少一个光束聚焦至衬底上，所述物镜光学系统具有光瞳孔径；以及检测系统，被配置用于检测从所述衬底反射的光；其中所述照射系统包括光瞳对称化OPS系统，所述光瞳对称化系统被配置用于使所述至少一个光束在所述光瞳孔径处对称化，所述OPS系统包括：至少一个分束器，被配置用于将所述至少一个光束分割为第一子光束和第二子光束并且重新组合所述第一子光束和所述第二子光束；以及至少两个光学分支，被配置用于(i)分别接收和反射所述第一子光束和所述第二子光束，(ii)旋转至少所述第二子光束，从而所述第二子光束的强度分布反转，以及(iii)重新组合所述第一子光束与所述第二子光束，从而所述第二子光束相对于所述第一子光束对称；其中所述OPS系统被进一步配置为使得所述第一子光束和所述第二子光束具有大于至少一个光源的时间相干性长度并且小于所述物镜光学系统的光瞳面中的焦深的光程差。