[发明专利]用于沉积多晶硅的反应器在审
| 申请号： | 201580068577.9 | 申请日： | 2015-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN107735361A | 公开（公告）日： | 2018-02-23 |
| 发明（设计）人： | T·魏斯;H·克劳斯 | 申请（专利权）人： | 瓦克化学股份公司 |
| 主分类号： | C01B33/035 | 分类号： | C01B33/035;C21D7/00;C22F1/14;C23C10/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司72002 | 代理人： | 李振东,过晓东 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于沉积多晶硅的反应器，其包括金属底板，放置在所述金属底板上并与其形成气密密封的可冷却的钟形罩，用于供应气体的喷嘴和用于除去反应气体的开口，以及用于丝棒的固定器和用于电流的输入引线和输出引线，其中涂布所述钟形罩的内壁，其特征在于，通过热成形和/或冷成形对涂层进行机械后处理，使得所述涂层在机械处理期间经历塑性变形。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 沉积 多晶 反应器 | ||
【主权项】：
用于沉积多晶硅的反应器，其包括金属底板、放置在所述底板上并与所述底板形成气密密封的可冷却的钟形罩、用于供应气体的喷嘴和用于除去反应气体的开口，以及用于丝棒的固定器和用于电流的输入引线和输出引线，其中所述钟形罩的内壁涂布金属或金属合金，其特征在于，通过热成形和/或冷成形对涂层进行机械后处理，使得所述涂层在机械处理期间经历塑性变形。
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