[发明专利]通过机器学习的特征搜索在审
| 申请号： | 201580069287.6 | 申请日： | 2015-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN107438842A | 公开（公告）日： | 2017-12-05 |
| 发明（设计）人： | 刘晓峰;卢彦文 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50;G06N99/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文披露一种用以改进光刻工艺的计算机实施的方法，所述光刻工艺用于使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像至衬底上，所述方法包括获得目标特征；通过将扰动施加于所述目标特征而从所述目标特征产生经扰动的目标特征；产生训练样本集合，其包括所述经扰动的目标特征以及关于是否将所述经扰动的目标特征视作与所述目标特征相同的指示；利用所述训练样本集合来训练学习模型；将所述设计布局的所述部分中的特征分类成至少两个类别视作与所述目标特征相同，以及视作与所述目标特征不同。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 机器 学习 特征 搜索 | ||
【主权项】：
一种用以改进光刻工艺的计算机实施方法，所述光刻工艺用于使用光刻投影设备将设计布局的一部分成像至衬底上，所述方法包括：获得目标特征；通过将扰动施用于所述目标特征来从所述目标特征产生经扰动的目标特征；产生训练样本集合，所述训练样本包括所述经扰动的目标特征和关于是否将所述经扰动的目标特征视作与所述目标特征相同的指示；利用所述训练样本集合来训练学习模型；通过计算机将所述设计布局的所述部分中的特征分类成至少两个类别：视作与所述目标特征相同、和视作与所述目标特征不同。
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