[发明专利]在具有垂直射束角装置的离子注入系统中测量垂直射束轮廓的方法

摘要

本发明涉及一种离子注入系统的测量系统，该测量系统可以具有绕轴线(184)旋转的扫描臂(166)以及使工件平移通过离子束(112)的工件支撑件(168)。第一测量构件(162)可以位于扫描臂下游并且提供来自离子束的第一信号。具有遮罩(190)和阻挡板(202)的第二测量构件(164)可以耦合(182)至扫描臂以随着扫描臂旋转提供来自离子束的第二信号，其中，遮罩基于遮罩与离子束之间的角取向而允许离子束中不同数量的离子辐射进入法拉第杯(200)；并且阻挡板基于扫描臂旋转来选择性阻挡到法拉第杯的离子束。控制器被配置成至少部分基于来自测量构件的一个或多个信号来确定离子束的尺寸以及离子束与工件之间的相对取向。

主权项

1.一种用于离子注入系统的测量系统，该测量系统包括：扫描臂，其被配置成绕轴线旋转；工件支撑件，其以线性滑动的方式与所述扫描臂接合，其中，该工件支撑件被配置成使工件沿注入平面平移通过离子束的路径；第一测量构件，其包括沿所述离子束的路径定位于所述扫描臂的下游的第一法拉第杯，其中，所述第一法拉第杯被配置成提供与入射于该第一法拉第杯的离子束中的离子辐射相关联的第一信号；第二测量构件，其包括在操作上耦合至所述扫描臂的第二法拉第杯和遮罩，其中，所述第二法拉第杯被配置成在所述扫描臂绕轴线旋转的同时提供与入射于该第二法拉第杯的离子束中的离子辐射相关联的第二信号，并且，所述遮罩被定位于所述第二法拉第杯的上游，其中，所述遮罩大体上相对于所述第二法拉第杯固定并具有限定于其中的多个狭缝，并且，所述遮罩被配置成基于所述遮罩与所述离子束之间的相对角取向允许所述离子束中不同数量的离子辐射从中穿过抵达所述第二法拉第杯，其中，所述遮罩进一步包括阻挡板，该阻挡板被定位于所述遮罩的一个或多个外侧位置处，并且，所述阻挡板被配置成基于所述扫描臂绕轴线旋转来选择性阻挡入射于所述第一法拉第杯的离子束中的离子辐射；以及控制器，其被配置成确定相对于所述注入平面的所述离子束的角度和所述离子束的垂直尺寸，其中，该确定至少部分基于以下一项或多项：第一信号、第二信号以及在所述第二法拉第杯绕轴线旋转时所述遮罩与所述离子束之间的相对取向。