[发明专利]用于干涉检测的方法和设备有效
申请号: | 201580071145.3 | 申请日: | 2015-11-26 |
公开(公告)号: | CN107250714B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 马提亚斯·贝尔;丹妮拉·斯顿夫;安德里亚斯·格布哈特;斯蒂芬·里塞;乌维·D·泽特纳 | 申请(专利权)人: | 弗劳恩霍弗应用研究促进协会;弗里德里希·席勒-耶拿大学 |
主分类号: | G01B9/02 | 分类号: | G01B9/02;G03H1/08;G03H1/22 |
代理公司: | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人: | 谢攀;刘继富 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 描述一种用于通过使用干涉检测构件来干涉检测至少两个光学功能表面(13、14)的形状和/或方位的方法和设备,该干涉检测构件包括:干涉仪(9)、光束成形光学元件(1)和校准标记(15、16、17、18)。通过光束成形光学元件(1)产生校准波前和检测波前,所述波前在校准标记(15、16、17、18)处和/或在光学功能表面(13、14)处透射或反射,进而产生测量波前。该方法和设备允许通过评估干涉仪(9)中的测量波前来测量光学功能表面(13、14)相对于彼此和/或相对于校准标记(15、16、17、18)的方位以及确定光学功能表面(13,14)与其期望几何形状和/或期望位置的形状偏差和/或方位偏差。 | ||
搜索关键词: | 用于 干涉 检测 方法 设备 | ||
【主权项】:
一种用于通过使用干涉检测构件来干涉检测至少两个光学功能表面(13、14)的形状和/或方位的方法,所述干涉检测构件包括:‑干涉仪(9),‑光束成形光学元件(1),所述光束成形光学元件设置在所述干涉仪(9)和所述光学功能表面(13,14)之间的光束路径中,和‑校准标记(15、16、17、18),所述校准标记位于所述干涉检测构件中的限定位置处或位于相对于所述光学功能表面(13、14)的限定位置处,所述方法具有如下步骤:‑通过所述光束成形光学元件(1)产生多个校准波前,其中所述校准波前在所述校准标记(15、16、17、18)处和/或在所述光学功能表面(13、14)处透射或反射,进而产生测量波前,‑通过评估所述干涉仪(9)中的所述测量波前来测量所述光学功能表面(13、14)相对于彼此和/或相对于所述校准标记(15、16、17、18)的方位,‑执行用于使所述光学功能表面(13,14)对准期望位置的校准运动,‑通过所述光束成形光学元件(1)产生至少两个检测波前,其中所述检测波前在所述光学功能表面(13、14)处透射或反射,进而产生另外的测量波前,和‑通过评估所述干涉仪(9)中的所述另外的测量波前来确定所述光学功能表面(13、14)与其期望几何形状和/或期望位置的形状偏差和/或方位偏差。
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