[发明专利]用于涂覆大面积的基体的装置有效
| 申请号： | 201580072444.9 | 申请日： | 2015-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN107109648B | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | H.W.A.詹森;B.辛曾;P.M.A.巴克斯 | 申请（专利权）人： | 艾克斯特朗欧洲公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/54;C23C14/56;C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 郝俊梅 |
| 地址： | 德国黑*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于涂覆至少一个基体的装置，所述装置具有布置在反应器壳体(1)中的用于将过程气体输入过程室的进气机构(4)，此进气机构(4)具有气体分配室(4’)，而此气体分配室(4’)包含具有排出口(7)的气体排出板(9)、及平行于所述气体排出板延伸的后壁(10)，并且，所述进气机构(4)通过吊架(3)固定在反应器壳体(1)上，其中，吊架(3)以与所述进气机构(4)的侧边缘相间隔的方式固定在所述进气机构(4)上。在后壁(10)与气体排出板(9)之间设有间隔元件(13)，气体排出板(9)、后壁(10)、及吊架(3)的下端(3’)固定在所述间隔元件上。所述吊架(3)具有沿其延伸方向相隔一定距离的第一及第二弯曲区(25至28)。吊架(3)的上端(3”)固定在保持元件(36)上，而此保持元件(36)的垂直位置能够相对于保持装置(2)调整。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 大面积 基体 装置 | ||
【主权项】：
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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