[发明专利]校准CVD或PVD反应器的高温计装置的方法

摘要

本发明涉及校准高温计装置的方法，该高温计装置用于测量搁置在CVD或PVD反应器的基座上的基板的表面温度，其中该高温计装置具有第一高温计，其在带宽小于20nm的窄谱范围内是灵敏的，且经出厂预校准或在预校准步骤中被预校准；和至少一个第二高温计，其在带宽大于100nm的第二宽带谱范围内是灵敏的，其中在第一步骤中校准所述第一高温计，并在第二步骤中将基座或校准元件调温至校准温度，或依次调温至多个不同的校准温度(Tl、T2、T3、T4)，用所述第一高温计测量该校准温度，并将该温度用作参考点(Sl、S2、S3、S4)来测定所述第二高温计的特性曲线。

主权项

1.一种校准高温计装置(11、12)的方法，该高温计装置用于测量搁置在CVD或PVD反应器(1)的基座(6)上的基板(9)的表面温度，其中该高温计装置具有第一高温计(11)，其在带宽小于20nm的窄谱范围内具有灵敏性，并且经出厂预校准或在预校准步骤中经预校准；至少一个第二高温计(12、12')，其在带宽大于100nm的第二宽带光谱范围内具有灵敏性，其中在第一步骤中校准第一高温计(11)，在第二步骤中将基座(6)或校准元件(17)调温至校准温度或依次调温至多个不同的校准温度(T_l、T₂、T₃、T₄)，用第一高温计(11)分别测量所述校准温度，并将所述校准温度用作参考点(S₁、S₂、S₃、S₄)以测定第二高温计(12)的特性曲线。