[发明专利]湿稳定的全息介质有效
| 申请号： | 201580076407.5 | 申请日： | 2015-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN107223121B | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | T.法伊克;F-K.布鲁德;T.罗勒;D.赫内尔 | 申请（专利权）人： | 科思创德国股份有限公司 |
| 主分类号： | C07C271/28 | 分类号： | C07C271/28;C07C323/43;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/027;G03F7/035 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 邵长准;万雪松 |
| 地址： | 德国勒*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及特别适合于用作全息介质中的书写单体的新型化合物。本发明还涉及包含本发明的化合物的光聚合物和全息介质，和包含本发明的全息介质的光学显示器、安全文件和全息光学元件。 | ||
| 搜索关键词： | 稳定 全息 介质 | ||
【主权项】：
包含基体聚合物、书写单体和光引发剂的光聚合物，其中所述书写单体包含式(I)的化合物其中R1是具有1‑8个碳原子的脂族烃基；R2是氢或甲基；Ar是式(II)的芳族基团其中R3彼此独立地为选自取代或未取代的苯基、取代或未取代的苯硫基、支化或非支化的烷基、支化或非支化的烷硫基、卤素的基团，其中基团R3的至少一个是选自取代或未取代的苯基、取代或未取代的苯硫基的基团；n = 1至5；或Ar是式(III)的芳族基团其中R3彼此独立地为选自取代或未取代的苯基、取代或未取代的苯硫基、支化或非支化的烷基、支化或非支化的烷硫基、卤素的基团，其中基团R3的至少一个是选自取代或未取代的苯基、取代或未取代的苯硫基的基团；o = 1至3；p = 1至4，其中式(I)的化合物具有仅一个辐射固化基团。
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