[发明专利]用于对试样进行光片显微检测的方法有效
申请号: | 201580076570.1 | 申请日: | 2015-11-18 |
公开(公告)号: | CN107430266B | 公开(公告)日: | 2020-04-17 |
发明(设计)人: | 托马斯·卡尔克布莱纳;海尔穆特·里佩尔特;乔治·吉本摩尔根 | 申请(专利权)人: | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 |
主分类号: | G02B21/36 | 分类号: | G02B21/36;G02B21/10;G02B21/00 |
代理公司: | 北京市创世宏景专利商标代理有限责任公司 11493 | 代理人: | 崔永华 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于对试样(1)进行光片显微检测的方法,其中,选择多个曝光波长,基于所述多个曝光波长将针对试样(1)的曝光光线集中起来。针对平均波长,将相位选择元件的调制深度确定为π。这里,对于相位选择元件表现出预设的相分布并且对于孔板平面的孔板(24)表现出预设的孔板结构,其实现了,基于多个曝光波长将曝光光线集中起来且利用从多色组成的光片对试样(1)曝光。为此,选出优先波长,且在曝光物镜(10)的焦平面中,针对预设形状的光片,利用优先波长的光确定出光片的电场。由此计算出要预设的相分布。相位选择元件被以曝光光线曝光,并且曝光光线借助于相位选择元件结构化。经结构化的曝光光线成像到孔板平面中,多色的经结构化的光线的零阶在孔板平面中被消隐,使得在布置于后面的曝光物镜(10)的焦平面中,成形有经结构化的光片,具有垂直于曝光物镜(10)的焦平面设置的光片平面。试样(1)被以结构化的光片在光片平面中曝光,从试样射出的光线沿检测方向得到检测,检测方向与光片平面围成不为零的角度。 | ||
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【主权项】:
一种用于对试样(1)进行光片显微检测的方法,其中,选择多个曝光波长,基于所述多个曝光波长将针对试样(1)的曝光光线集中起来,针对平均波长,将相位选择元件的调制深度确定为π,对于相位选择元件表现出预设的相分布并且对于孔板平面的孔板(24)表现出预设的孔板结构,方式为:(i)选出优先波长,所述优先波长具有至少一个等于最长曝光波长的波长,(ii)在曝光物镜(10)的焦平面中,针对预设形状的光片,利用优先波长的光确定出光片的电场,并且由此计算出要预设的相分布,在孔板平面中,对中间区域进行消隐,使得(iii)孔板结构将优先波长的经结构化的光的零阶消隐,相位选择元件在曝光光路中,在中间像平面中或附近被以曝光光线曝光,并且曝光光线借助于相位选择元件结构化,经结构化的曝光光线成像到布置在相位选择元件后面的孔板平面中,在孔板平面中产生曝光光线的频率光谱,孔板结构得到匹配,使得经结构化的曝光光线的零阶在孔板平面中基本上被消隐,由此,在布置于后面的曝光物镜(10)的焦平面中,成形有经结构化的彩色光片,具有垂直于曝光物镜(10)的焦平面设置的光片平面,试样(1)被以结构化的光片在光片平面中曝光,从试样(1)射出的光线沿检测方向得到检测,检测方向与光片平面围成不为零的角度。
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