[发明专利]具有纹理化表面的光电设备及其制造方法

摘要

本发明涉及一种光电设备，包括半导体衬底、分层界面、以及纹理化表面结构，分层界面包括至少一层(2，3)，所述分层界面具有与所述半导体衬底(1)的表面(20)接触的第一表面(21)，并且所述分层界面被适配成用于钝化所述半导体衬底(1)的所述表面(20)，所述分层界面具有第二表面(23)并且所述分层界面被适配成用于使所述第一表面(21)与所述第二表面(23)电绝缘；并且纹理化表面结构包括多条纳米线(4)和透明电介质涂层(5)，所述纹理化表面结构与所述分层界面的所述第二表面(23)接触，所述多条纳米线(4)从所述第二表面(23)突出并且所述多条纳米线(4)嵌入在所述第二表面(23)与所述透明电介质涂层(5)之间。

主权项

一种光电设备，包括具有表面(20)的半导体衬底(1)，其特征在于，所述光电设备包括：‑分层界面，包括至少一层(2，3)，所述分层界面具有与所述半导体衬底(1)的所述表面(20)接触的第一表面(21)，并且所述分层界面被适配成用于钝化所述半导体衬底(1)的所述表面(20)，所述分层界面具有第二表面(23)，并且所述分层界面被适配成用于使所述第一表面(21)与所述第二表面(23)电绝缘；以及‑纹理化表面结构，包括多条纳米线(4)和透明电介质涂层(5)，所述纹理化表面结构与所述分层界面的所述第二表面(23)接触，所述多条纳米线(4)从所述第二表面(23)突出，并且所述多条纳米线(4)嵌入在所述第二表面(23)与所述透明电介质涂层(5)之间，涂覆有所述电介质涂层(5)的所述纳米线具有包括在20纳米与200纳米之间的高度。